Les brides d'étanchéité en quartz Semicorex sont des joints d'étanchéité sous vide hautes performances conçus pour les équipements sous vide à semi-conducteurs haut de gamme, les chambres à haute température et les systèmes de tuyauterie de gaz, qui répondent pleinement aux exigences des lignes de production de haute précision, de haute propreté et de haute stabilité de la fabrication avancée de semi-conducteurs. Choisir les brides d'étanchéité en quartz Semicorex, garantissant les solutions de quartz idéales pour vos applications
La fonction principale des brides d'étanchéité en quartz est de connecter et de sceller de manière transparente les chambres d'équipement, les pipelines et les fours afin d'assurer la stabilité des connexions entre les équipements. SemicorexquartzLes brides d'étanchéité, grâce à une sélection rigoureuse des matériaux et à un usinage de haute précision, sont des joints d'étanchéité fiables. Ils peuvent isoler efficacement les impuretés externes et les interférences de l'air, contribuant ainsi à créer un vide stable et une atmosphère de processus pure pour les processus de fabrication de semi-conducteurs de base tels que la gravure, le dépôt, la diffusion, le recuit et le dépôt de couches minces.
Semicorex utilise du quartz fondu de haute pureté au niveau semi-conducteur pour produire notrebrides d'étanchéité en quartz, leur conférant d’excellentes performances détaillées comme ci-dessous :
1. Pureté des matériaux ultra élevée—— teneur en éléments métalliques extrêmement faible (contrôlée pour être le niveau ppb).
2. Libération de gaz d'impuretés sous vide faible—— en évitant de libérer des gaz d'impuretés en excès qui pourraient interférer avec le vide de la chambre.
3. Résistance supérieure aux chocs thermiques—— s'adaptant parfaitement au chauffage et au refroidissement fréquents dans l'environnement de production de masse.
4. Résistance robuste à la corrosion—— résister efficacement à la corrosion à long terme des gaz de procédé fortement corrosifs, tels que les gaz à base de F, de Cl et oxydants.
Fabriquées selon une série de processus de précision, y compris l'usinage de précision d'une seule pièce, le polissage miroir de la surface, le perçage précis des trous et le nettoyage sans poussière, les brides d'étanchéité en quartz Semicorex présentent une excellente planéité de surface et une surface d'étanchéité lisse, qui s'adaptent parfaitement au joint d'étanchéité, assurant un ajustement serré et une excellente étanchéité à l'air.
Semicorex prend en charge la fabrication sur mesure non standard de nos brides en quartz. Nous pouvons personnaliser leur diamètre, leur épaisseur, la position et l'espacement des trous, les biseaux d'étanchéité et les structures d'accouplement irrégulières pour garantir qu'ils sont entièrement compatibles avec les équipements de traitement de semi-conducteurs traditionnels.

1. Connexions sous vide pour équipements de traitement de puces logiques et de puces mémoire
2. Accouplement de brides pour les chambres d'équipement de dépôt de couches minces PECVD, ALD et PVD
3. Scellement de tuyauterie sous vide pour machines de gravure au plasma
4. Raccords de tubes de four pour fours à haute température, tels que les fours à diffusion et les fours de recuit
5. Accessoires pour les procédés de fabrication de dispositifs de puissance SiC ou GaN
6. Accessoires pour équipements sous vide à haute température dans les laboratoires de semi-conducteurs
7. Scellage sous vide de précision pour les équipements de traitement de substances optoélectroniques
1. Comment obtenir rapidement un devis ?
Le partage des informations sur les matériaux, les dessins, les dimensions et les environnements de travail requis permet de proposer rapidement des devis.
2. Quel est le délai de livraison pour les brides d'étanchéité en quartz ?
Cela dépend de la quantité commandée et de notre calendrier de production.
3. Quelles sont les restrictions d’utilisation des brides d’étanchéité en quartz ?
Veuillez éviter une immersion prolongée dans de l'acide fluorhydrique à haute concentration, un impact instantané sous ultra-haute pression et un impact mécanique ou une compression sévère.