2025-11-14
L'effet de chargement fait référence au phénomène selon lequel la vitesse de gravure change de manière non linéaire en fonction de variables telles que la surface et la largeur de ligne du motif gravé. En d’autres termes, différentes zones gravées ou largeurs de raies entraîneront des différences de vitesse ou de morphologie.
1. Etch Rete
Le taux de gravure fait référence à l’épaisseur du matériau gravé par unité de temps (unités : nm/min ou μm/min). Sa valeur affecte directement l'efficacité de la gravure, et un faible taux de gravure prolongera le cycle de production. Il convient de noter que les paramètres de l’équipement, les propriétés des matériaux et la zone de gravure influencent tous la vitesse de gravure.
2.Sélectivité
La sélectivité du substrat et la sélectivité du masque sont les deux types de sélectivité de gravure sèche. Idéalement, il faudrait choisir un gaz de gravure présentant une sélectivité élevée du masque et une faible sélectivité du substrat, mais en réalité, le choix doit être optimisé en tenant compte des propriétés du matériau.
3. Uniformité
L'uniformité au sein d'une tranche est la cohérence du débit à différents endroits au sein de la même tranche, conduisant à des écarts dimensionnels dans les dispositifs semi-conducteurs. Tandis que l'uniformité d'une tranche à l'autre fait référence à la cohérence du débit entre les différentes tranches, ce qui peut entraîner des fluctuations de précision d'un lot à l'autre.

4.Dimension critique
La dimension critique fait référence aux paramètres géométriques des microstructures tels que la largeur des lignes, la largeur des tranchées et le diamètre du trou.
5. Rapport d'aspect
Le rapport hauteur/largeur, comme son nom l’indique, est le rapport entre la profondeur de gravure et la largeur d’ouverture. Les structures de rapport d'aspect sont une exigence essentielle pour les dispositifs 3D dans les MEMS et doivent être optimisées via le contrôle du rapport de gaz et de la puissance pour éviter une dégradation du débit inférieur.
6. Dommages causés par la gravure
Les dommages causés par la gravure tels qu'une gravure excessive, une contre-dépouille et une gravure latérale peuvent réduire la précision dimensionnelle (par exemple, écart d'espacement des électrodes, rétrécissement des faisceaux en porte-à-faux).
7.Effet de chargement
L'effet de chargement fait référence au phénomène selon lequel la vitesse de gravure change de manière non linéaire en fonction de variables telles que la surface et la largeur de ligne du motif gravé. En d’autres termes, différentes zones gravées ou largeurs de raies entraîneront des différences de vitesse ou de morphologie.
Semicorex se spécialise dansRevêtement SiCetRevêtement TaCsolutions de graphite appliquées aux processus de gravure dans la fabrication de semi-conducteurs, si vous avez des questions ou avez besoin de détails supplémentaires, n'hésitez pas à nous contacter.
Téléphone : +86-13567891907
Courriel : sales@semicorex.com