Vous pouvez être assuré d'acheter ICP Etching Carrier dans notre usine et nous vous offrirons le meilleur service après-vente et une livraison rapide. Le suscepteur de plaquette Semicorex est fabriqué à partir de graphite recouvert de carbure de silicium à l'aide du procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Ce matériau possède des propriétés uniques, notamment une résistance aux températures élevées et aux produits chimiques, une excellente résistance à l’usure, une conductivité thermique élevée ainsi qu’une résistance et une rigidité élevées. Ces propriétés en font un matériau attrayant pour diverses applications à haute température, notamment les systèmes de gravure au plasma à couplage inductif (ICP).
Nous fournissons un service personnalisé, vous aidons à innover avec des composants qui durent plus longtemps, réduisons les temps de cycle et améliorons les rendements.
Le disque de gravure Semicorex SiC ICP n'est pas simplement un composant ; Il s'agit d'un élément essentiel de la fabrication de semi-conducteurs de pointe. Alors que l'industrie des semi-conducteurs poursuit sa recherche incessante de miniaturisation et de performances, la demande de matériaux avancés comme le SiC ne fera que s'intensifier. Il garantit la précision, la fiabilité et les performances requises pour alimenter notre monde axé sur la technologie. Chez Semicorex, nous nous engageons à fabriquer et à fournir des disques de gravure SiC ICP hautes performances qui allient qualité et rentabilité.**
En savoir plusenvoyer une demandeLe suscepteur Semicorex SiC pour ICP Etch est fabriqué en mettant l’accent sur le maintien de normes élevées de qualité et de cohérence. Les processus de fabrication robustes utilisés pour créer ces suscepteurs garantissent que chaque lot répond à des critères de performance stricts, fournissant ainsi des résultats fiables et cohérents en matière de gravure de semi-conducteurs. De plus, Semicorex est équipé pour offrir des délais de livraison rapides, ce qui est crucial pour suivre le rythme des demandes de rotation rapide de l'industrie des semi-conducteurs, garantissant que les délais de production sont respectés sans compromettre la qualité. Chez Semicorex, nous nous engageons à fabriquer et à fournir des produits de haute performance. Suscepteur SiC pour ICP Etch qui allie qualité et r......
En savoir plusenvoyer une demandeLe composant ICP à revêtement SiC de Semicorex est conçu spécifiquement pour les processus de manipulation de plaquettes à haute température tels que l'épitaxie et le MOCVD. Dotés d'un fin revêtement cristallin SiC, nos supports offrent une résistance thermique supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable.
En savoir plusenvoyer une demandeLorsqu'il s'agit de processus de manipulation de plaquettes tels que l'épitaxie et le MOCVD, le revêtement SiC haute température de Semicorex pour les chambres de gravure au plasma est le premier choix. Nos supports offrent une résistance thermique supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable grâce à notre fin revêtement cristallin SiC.
En savoir plusenvoyer une demandeLe plateau de gravure plasma ICP de Semicorex est conçu spécifiquement pour les processus de manipulation de plaquettes à haute température tels que l'épitaxie et le MOCVD. Avec une résistance stable à l'oxydation à haute température allant jusqu'à 1 600 °C, nos supports offrent des profils thermiques uniformes, des modèles d'écoulement de gaz laminaire et empêchent la contamination ou la diffusion d'impuretés.
En savoir plusenvoyer une demandeLe support à revêtement SiC de Semicorex pour le système de gravure plasma ICP est une solution fiable et rentable pour les processus de manipulation de plaquettes à haute température tels que l'épitaxie et le MOCVD. Nos supports sont dotés d'un fin revêtement cristallin SiC qui offre une résistance thermique supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable.
En savoir plusenvoyer une demande