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Fours CVD utilisés pour le procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Le dépôt chimique en phase vapeur est un processus dans lequel un film mince est déposé sur un substrat en utilisant une réaction chimique entre des gaz précurseurs vaporisés et une surface chauffée.

Les fours CVD se composent généralement d'une chambre à vide, d'un système de distribution de gaz, d'un système de chauffage et d'un porte-substrat. La chambre à vide est utilisée pour éliminer l'air et les autres gaz de l'environnement de dépôt afin d'empêcher les impuretés d'interférer avec le processus de dépôt. Le système de distribution de gaz délivre les gaz précurseurs à la surface du substrat où ils réagissent pour former le film mince souhaité. Le système de chauffage chauffe le substrat à la température requise pour que la réaction se produise. Le porte-substrat est utilisé pour maintenir le substrat en place pendant le processus de dépôt.

Dans le procédé CVD, les gaz précurseurs sont introduits dans la chambre à vide et chauffés à une température à laquelle ils se décomposent et réagissent pour former un film mince sur le substrat chauffé. La température et la pression de l'environnement de dépôt sont soigneusement contrôlées pour garantir l'obtention des propriétés de film souhaitées.

Les fours CVD sont largement utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs pour déposer des couches minces pour la fabrication de dispositifs microélectroniques, tels que des circuits intégrés et des cellules solaires. Ils sont également utilisés dans la production de matériaux avancés, tels que les revêtements, les fibres optiques et les supraconducteurs.