Les suscepteurs en barillet sont un composant essentiel utilisé dans divers processus de fabrication de semi-conducteurs, tels que le LPE et le MOCVD. Semicorex applique du carbure de silicium de haute pureté en couches minces sur le graphite en utilisant le processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), ce qui rend le matériau de qualité semi-conducteur doté d'une excellente stabilité thermique, résistance chimique et résistance à l'usure, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans des environnements de haute pureté. processus de température.
● Graphite revêtu de SiC de haute pureté
● Résistance supérieure à la chaleur et aux produits chimiques
● Haute uniformité thermique
● Excellente résistance à l'usure
Le suscepteur cylindrique à revêtement SiC CVD Semicorex est un composant méticuleusement conçu, adapté aux processus avancés de fabrication de semi-conducteurs, en particulier l'épitaxie. Nos produits ont un bon avantage de prix et couvrent la plupart des marchés européens et américains. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
En savoir plusenvoyer une demandeLe graphite revêtu de carbure de silicium Semicorex Barrel Susceptor est un composant spécialisé conçu pour être utilisé dans le processus d'épitaxie, en particulier pour le transport de tranches. Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur la manière dont nous pouvons vous aider avec vos besoins en matière de traitement de plaquettes semi-conductrices.
En savoir plusenvoyer une demandeLe suscepteur à baril revêtu de SiC Semicorex pour la croissance épitaxiale LPE est un produit haute performance conçu pour fournir des performances constantes et fiables sur une période prolongée. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épitaxiales de haute qualité sur des puces de tranche. Sa personnalisation et sa rentabilité en font un produit hautement compétitif sur le marché.
En savoir plusenvoyer une demandeLe système Semicorex Barrel Susceptor Epi est un produit de haute qualité qui offre une adhérence supérieure du revêtement, une pureté élevée et une résistance à l'oxydation à haute température. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épixiales sur des puces de tranche. Sa rentabilité et sa personnalisation en font un produit hautement compétitif sur le marché.
En savoir plusenvoyer une demandeLe système de réacteur d'épitaxie en phase liquide (LPE) Semicorex est un produit innovant qui offre d'excellentes performances thermiques, un profil thermique uniforme et une adhérence supérieure du revêtement. Sa haute pureté, sa résistance à l'oxydation à haute température et sa résistance à la corrosion en font un choix idéal pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses options personnalisables et sa rentabilité en font un produit hautement compétitif sur le marché.
En savoir plusenvoyer une demandeLe dépôt épitaxial CVD Semicorex dans un réacteur baril est un produit très durable et fiable pour la croissance de couches épixiales sur des puces de plaquettes. Sa résistance à l’oxydation à haute température et sa grande pureté le rendent adapté à une utilisation dans l’industrie des semi-conducteurs. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épixiales de haute qualité.
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