La plaque centrale en graphite Semicorex ou suscepteur MOCVD est du carbure de silicium de haute pureté recouvert par la méthode de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), utilisant dans le processus la croissance de la couche épitaxiale sur la puce de la tranche. Le suscepteur revêtu de SiC est un élément essentiel du MOCVD, il exige donc une résistance thermique et chimique supérieure, ainsi qu'une uniformité thermique élevée. Nous avons conçu spécifiquement pour ces applications exigeantes d’équipement d’épitaxie.
Semicorex MOCVD Waferholder est un composant indispensable pour la croissance par épitaxie SiC, offrant une gestion thermique, une résistance chimique et une stabilité dimensionnelle supérieures. En choisissant le porte-plaquettes de Semicorex, vous améliorez les performances de vos processus MOCVD, conduisant à des produits de meilleure qualité et à une plus grande efficacité dans vos opérations de fabrication de semi-conducteurs. *
En savoir plusenvoyer une demandeLe suscepteur Semicorex MOCVD 3x2'' développé par Semicorex représente le summum de l'innovation et de l'excellence en ingénierie, spécialement conçu pour répondre aux exigences complexes des processus de fabrication de semi-conducteurs contemporains.**
En savoir plusenvoyer une demandeL'anneau de revêtement Semicorex SiC est un composant essentiel dans l'environnement exigeant des processus d'épitaxie de semi-conducteurs. Grâce à notre engagement constant à fournir des produits de qualité supérieure à des prix compétitifs, nous sommes prêts à devenir votre partenaire à long terme en Chine.*
En savoir plusenvoyer une demandeL'engagement de Semicorex envers la qualité et l'innovation est évident dans le segment des couvertures SiC MOCVD. En permettant une épitaxie SiC fiable, efficace et de haute qualité, il joue un rôle essentiel dans l'amélioration des capacités des dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération.**
En savoir plusenvoyer une demandeLe segment intérieur Semicorex SiC MOCVD est un consommable essentiel pour les systèmes de dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD) utilisés dans la production de tranches épitaxiales en carbure de silicium (SiC). Il est précisément conçu pour résister aux conditions exigeantes de l'épitaxie SiC, garantissant des performances de processus optimales et des épicouches SiC de haute qualité.**
En savoir plusenvoyer une demandeLes suscepteurs de tranches SiC Semicorex pour MOCVD sont un modèle de précision et d'innovation, spécialement conçus pour faciliter le dépôt épitaxial de matériaux semi-conducteurs sur des tranches. Les propriétés matérielles supérieures des plaques leur permettent de résister aux conditions rigoureuses de croissance épitaxiale, notamment aux températures élevées et aux environnements corrosifs, ce qui les rend indispensables pour la fabrication de semi-conducteurs de haute précision. Chez Semicorex, nous nous engageons à fabriquer et à fournir des suscepteurs de plaquettes SiC hautes performances pour MOCVD qui allient qualité et rentabilité.
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