Le support Semicorex RTP est recouvert de carbure de silicium à l'aide du processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), qui est vraiment stable pour le RTA, le RTP ou le nettoyage chimique agressif. Au cœur du processus de semi-conducteur, les suscepteurs d'épitaxie sont d'abord soumis à l'environnement de dépôt, ce qui leur confère une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion. Le support revêtu de SiC présente également une conductivité thermique élevée et d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur.
● Graphite revêtu de SiC de haute pureté
● Résistance supérieure à la chaleur et aux produits chimiques
● Haute uniformité thermique
● Excellente résistance à l'usure
La plaque porteuse en graphite RTP de Semicorex est la solution parfaite pour les applications de traitement de tranches de semi-conducteurs, y compris le traitement de croissance épitaxiale et de manipulation de tranches. Notre produit est conçu pour offrir une résistance thermique et une uniformité thermique supérieures, garantissant que les suscepteurs d'épitaxie sont soumis à l'environnement de dépôt, avec une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion.
En savoir plusenvoyer une demandeLe support de revêtement Semicorex RTP SiC offre une résistance thermique et une uniformité thermique supérieures, ce qui en fait la solution parfaite pour les applications de traitement de plaquettes semi-conductrices. Avec son graphite revêtu de SiC de haute qualité, ce produit est conçu pour résister aux environnements de dépôt les plus difficiles pour la croissance épitaxiale. La conductivité thermique élevée et les excellentes propriétés de répartition de la chaleur garantissent des performances fiables pour le nettoyage RTA, RTP ou chimique agressif.
En savoir plusenvoyer une demandeLe support de revêtement Semicorex RTP/RTA SiC est conçu pour résister aux conditions les plus difficiles de l'environnement de dépôt. Grâce à sa résistance élevée à la chaleur et à la corrosion, ce produit est conçu pour offrir des performances optimales pour la croissance épitaxiale. Le support revêtu de SiC présente une conductivité thermique élevée et d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, garantissant des performances fiables pour le nettoyage RTA, RTP ou chimique agressif.
En savoir plusenvoyer une demandeLa plaque support RTP en graphite SiC Semicorex pour MOCVD offre une résistance thermique et une uniformité thermique supérieures, ce qui en fait la solution parfaite pour les applications de traitement de plaquettes de semi-conducteurs. Avec un graphite revêtu de SiC de haute qualité, ce produit est conçu pour résister aux environnements de dépôt les plus difficiles pour la croissance épitaxiale. La conductivité thermique élevée et les excellentes propriétés de répartition de la chaleur garantissent des performances fiables pour le nettoyage RTA, RTP ou chimique agressif.
En savoir plusenvoyer une demandeLa plaque support RTP avec revêtement SiC Semicorex pour croissance épitaxiale est la solution parfaite pour les applications de traitement de plaquettes semi-conductrices. Avec ses suscepteurs en graphite de carbone de haute qualité et ses creusets en quartz traités par MOCVD sur la surface du graphite, de la céramique, etc., ce produit est idéal pour la manipulation de plaquettes et le traitement de croissance épitaxiale. Le support revêtu de SiC garantit une conductivité thermique élevée et d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, ce qui en fait un choix fiable pour le nettoyage RTA, RTP ou chimique agressif.
En savoir plusenvoyer une demandeSemicorex est un fabricant et fournisseur à grande échelle de suscepteurs en graphite recouvert de carbure de silicium en Chine. Suscepteur en graphite Semicorex conçu spécifiquement pour les équipements d'épitaxie à haute résistance à la chaleur et à la corrosion en Chine. Notre support revêtu RTP RTA SiC présente un bon avantage en termes de prix et couvre de nombreux marchés européens et américains. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme.
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