Nouvelles de la société

Quelles sont les difficultés techniques de la fournaise de croissance cristalline SIC

La fournaise de croissance des cristaux est l'équipement de base de la croissance des cristaux de carbure de silicium. Il est similaire au four à croissance cristalline cristalline traditionnelle de qualité silicium. La structure de la fournaise n'est pas très compliquée. Il est principalement compo......

Qu'est-ce que le revêtement de carbone en forme de verre

Semicorex propose une isolation thermique de haute qualité et un revêtement de carbone en verre.

Qu'est-ce qu'une plaquette factice ?

Dans le processus de fabrication des semi-conducteurs, les tranches constituent la base de la production de puces. Parmi ceux-ci, un type spécial de plaquette, appelé Dummy Wafer, joue un rôle central pour assurer la stabilité de l’équipement et contrôler les coûts de production.

Matériaux carbonés poreux hiérarchiques : synthèse et introduction

Synthèse de poudre de carbure de silicium de haute pureté

La poudre de carbure de silicium de haute pureté présente des caractéristiques de large bande interdite exceptionnelles, ce qui en fait un matériau idéal pour la fabrication d'appareils électroniques haute fréquence et haute puissance.

Processus PECVD

Le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) est une technologie largement utilisée dans la fabrication de puces. Il utilise l’énergie cinétique des électrons dans le plasma pour activer des réactions chimiques en phase gazeuse, réalisant ainsi le dépôt de couches minces.