Une pomme de douche SiC (carbure de silicium) est un composant spécialisé utilisé dans divers processus industriels, en particulier dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Il est conçu pour distribuer et délivrer les gaz de procédé de manière uniforme et précise lors des processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de croissance épitaxiale.
La pomme de douche a la forme d'un disque ou d'une plaque avec plusieurs trous ou buses uniformément répartis sur sa surface. Ces trous servent de sorties pour les gaz de procédé, leur permettant d'être injectés dans la chambre de procédé ou la chambre de réaction. La taille, la forme et la distribution des trous peuvent varier en fonction de l'application spécifique et des exigences du processus.
L'un des principaux avantages de l'utilisation d'une pomme de douche SiC est son excellente conductivité thermique. Cette propriété permet un transfert de chaleur efficace et une répartition uniforme de la température sur toute la surface de la pomme de douche, évitant les points chauds et garantissant des conditions de traitement constantes. La conductivité thermique améliorée permet également un refroidissement rapide de la pomme de douche après le processus, minimisant les temps d'arrêt et augmentant la productivité globale.
Les pommes de douche SiC sont très durables et résistantes à l'usure, même en cas d'exposition prolongée à des gaz corrosifs et à des températures élevées. Cette longévité se traduit par des intervalles de maintenance prolongés et une réduction des temps d'arrêt des équipements, ce qui se traduit par des économies de coûts et une amélioration de la fiabilité des processus.
En plus de sa robustesse, les pommes de douche SiC offrent d'excellentes capacités de distribution de gaz. Les modèles et configurations de trous conçus avec précision garantissent un flux et une distribution uniformes du gaz sur la surface du substrat, favorisant un dépôt de film cohérent et des performances améliorées de l'appareil. La distribution uniforme du gaz aide également à minimiser les variations d'épaisseur de film, de composition et d'autres paramètres critiques, contribuant ainsi à améliorer le contrôle et le rendement du processus.
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En savoir plusenvoyer une demandeLa pomme de douche Semicorex CVD-SiC offre une durabilité, une excellente gestion thermique et une résistance à la dégradation chimique, ce qui en fait un choix approprié pour les processus CVD exigeants dans l'industrie des semi-conducteurs. Semicorex s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
En savoir plusenvoyer une demandeDans un appareil à plasma pour la gravure et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de matériaux sur des tranches, des gaz de traitement sont introduits dans une chambre de traitement à travers une tête de douche en graphite revêtue de SiC CVD. Semicorex s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
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