Qu’est-ce que la gravure plasma à basse température ?

Le plasma est le quatrième état de la matière et il joue un rôle crucial tant dans les applications industrielles que dans les phénomènes naturels. Par exemple, le plasma est présent dans les éclairs et est généré en abondance à la surface du soleil, où la température centrale atteint la température stupéfiante de 13 500°C. Ce plasma à haute température n’est pas adapté à la plupart des procédés de production industriels.

D’un autre côté, le plasma à basse température est une forme de plasma créée artificiellement qui utilise l’énergie plutôt que la chaleur pour accélérer les réactions chimiques. Sa température varie généralement de la température ambiante à plusieurs centaines de degrés Celsius, ce qui la rend très efficace pour diverses applications.

Étapes pour générer du plasma artificiel :

1. Réduisez la pression dans la chambre : Commencez par utiliser une pompe à vide pour réduire la pression dans la cavité. Atteindre une basse pression est essentiel pour stabiliser le plasma et faciliter l’ionisation du gaz.

2. Introduire le gaz de procédé : injecter des gaz de procédé spécifiques dans la cavité. Ces gaz constituent la principale source de particules dans le plasma.

3. Excitez le plasma : appliquez le pouvoir pour ioniser le gaz, formant ainsi efficacement un plasma.

4. Désactivez le plasma et rétablissez la pression atmosphérique : Une fois les réactions souhaitées terminées, éteignez le plasma et remettez la chambre à la pression atmosphérique.

Applications du plasma à basse température dans la fabrication de semi-conducteurs :

Le plasma à basse température est indispensable dans la fabrication de semi-conducteurs, remplissant des fonctions critiques dans la gravure sèche, le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt de couche atomique (ALD), l'implantation ionique, l'incinération et la détection du point final. Sa polyvalence et son efficacité en font un outil fondamental dans l'industrie.

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