Actualités - Semicorex Advanced Material Technology Co., Ltd

Gravure sèche vs gravure humide

Dans la fabrication des semi-conducteurs, la gravure est l’une des étapes majeures, avec la photolithographie et le dépôt de couches minces. Il s’agit d’éliminer les matériaux indésirables de la surface d’une plaquette à l’aide de méthodes chimiques ou physiques. Cette étape est réalisée après enduc......

Dislocation dans les cristaux de SiC

Le substrat SiC peut présenter des défauts microscopiques, tels que la luxation de la vis filetée (TSD), la luxation du bord du filetage (TED), la luxation du plan de base (BPD) et autres. Ces défauts sont causés par des écarts dans la disposition des atomes au niveau atomique.

À propos des défauts des cristaux de SiC - Micropipe

Le substrat SiC peut présenter des défauts microscopiques, tels que la luxation de la vis filetée (TSD), la luxation du bord du filetage (TED), la luxation du plan de base (BPD) et autres. Ces défauts sont causés par des écarts dans la disposition des atomes au niveau atomique. Les cristaux de SiC p......

Pourquoi choisir la méthode d’épitaxie en phase liquide ?

Par rapport à la méthode PVT, la méthode en phase liquide pour la croissance du SiC présente les avantages suivants :

Qu’est-ce que l’épitaxie en phase liquide ?

La méthode en phase liquide est plus proche des conditions d’équilibre thermodynamique et permet de faire croître des cristaux de SiC de meilleure qualité.

Revêtement TaC

Selon les résultats de la recherche, le revêtement TaC peut agir comme une couche de protection et d'isolation pour prolonger la durée de vie des composants en graphite, améliorer l'uniformité de la température radiale, maintenir la stœchiométrie par sublimation SiC, supprimer la migration des impur......

Nouvelles

Gravure sèche vs gravure humide

Dislocation dans les cristaux de SiC

À propos des défauts des cristaux de SiC - Micropipe

Pourquoi choisir la méthode d’épitaxie en phase liquide ?

Qu’est-ce que l’épitaxie en phase liquide ?

Revêtement TaC