Mandrin à vide Al2O3

Applications dans la fabrication de semi-conducteurs

Le mandrin à vide Semicorex Al2O3 est un outil polyvalent utilisé à plusieurs étapes de la production de semi-conducteurs :

Amincissement : pendant le processus d'amincissement de la tranche, le mandrin à vide Al2O3 fournit un support stable et uniforme, garantissant une réduction de substrat de haute précision. Ceci est crucial pour améliorer la dissipation thermique de la puce et améliorer les performances de l’appareil.

Découpage en dés : lors de l'étape de découpage en dés, où les tranches sont découpées en copeaux individuels, le mandrin sous vide Al2O3 offre une adsorption sûre et stable, minimisant le risque de dommages et garantissant des coupes nettes.

Nettoyage : La surface d'adsorption lisse et uniforme du mandrin à vide Al2O3 le rend adapté aux processus de nettoyage des plaquettes, garantissant que les contaminants sont efficacement éliminés sans endommager les plaquettes.

Transport : pendant la manipulation et le transport des plaquettes, le mandrin à vide Al2O3 fournit un support fiable et sécurisé, réduisant ainsi le risque de dommages et de contamination.

SemicorexVideDébit de mandrin

Avantages du mandrin à vide Semicorex Al2O3

1. Technologie céramique microporeuse uniforme

Le mandrin à vide Al2O3 est construit à l'aide d'une technologie céramique microporeuse, qui implique l'utilisation de nanopoudres de taille uniforme. Cette technologie garantit que les pores sont uniformément répartis et interconnectés, ce qui entraîne une porosité élevée et une structure uniformément dense. Cette uniformité améliore les performances du mandrin à vide, offrant un support de plaquette cohérent et fiable.

2. Propriétés matérielles exceptionnelles

L'alumine ultra pure à 99,99 % (Al2O3) utilisée dans le mandrin à vide Al2O3 offre une gamme de propriétés exceptionnelles :

Propriétés thermiques : Avec une résistance thermique élevée et une excellente conductivité thermique, le mandrin à vide Al2O3 peut résister aux températures élevées couramment rencontrées dans la fabrication de semi-conducteurs.

Propriétés mécaniques : la haute résistance et la dureté de l'alumine garantissent que le mandrin à vide Al2O3 est durable et résistant à l'usure, offrant des performances durables.

Autres propriétés : L'alumine offre également une isolation électrique élevée et une résistance à la corrosion, ce qui rend le mandrin à vide Al2O3 adapté à un large éventail d'environnements de fabrication.

3. Planéité et parallélisme supérieurs

L'un des principaux avantages du mandrin à vide Al2O3 est sa planéité et son parallélisme élevés. Ces propriétés sont cruciales pour garantir une manipulation précise et stable des plaquettes, minimiser le risque de dommages et garantir des résultats de traitement cohérents. De plus, la bonne perméabilité à l'air et la force d'adsorption uniforme du mandrin à vide Al2O3 garantissent un fonctionnement fluide et fiable.

4. Options de personnalisation

Chez Semicorex, nous comprenons que chaque processus de fabrication de semi-conducteurs a des exigences uniques. C'est pourquoi nous proposons des mandrins à vide personnalisés, adaptés à vos besoins spécifiques. En fonction de la planéité requise et des coûts de production, nous recommandons différents matériaux de base, garantissant ainsi que le poids et les performances du mandrin à vide sont optimisés pour votre application. Ces matériaux comprennent l'acier inoxydable SUS430, l'alliage d'aluminium 6061, la céramique d'alumine dense (couleur ivoire), le granit et la céramique dense de carbure de silicium.

Mesure CMM du mandrin à vide Al2O3