Mandrins électrostatiques en céramique

Mandrins électrostatiques en céramiquesont des composants de précision qui utilisent le champ électrostatique généré entre les électrodes et les tranches pour serrer et fixer les tranches. Ils sont largement utilisés dans des domaines tels que les semi-conducteurs, les écrans plats et l'optique, et constituent des composants essentiels d'équipements haut de gamme tels que les dispositifs PVD, les machines de gravure et les implanteurs d'ions.

Par rapport aux mandrins mécaniques traditionnels et aux mandrins à vide, les mandrins électrostatiques en céramique présentent de nombreux avantages dans le domaine de la fabrication de semi-conducteurs. Ce mandrin électrostatique en céramique utilise l'électricité statique pour aplatir et maintenir uniformément les plaquettes sur sa surface. Cette force d'adsorption uniforme peut maintenir l'objet adsorbé relativement plat, évitant ainsitranchedéformation ou déformation pouvant être causée par les mandrins mécaniques traditionnels oumandrins à vide, et garantir que la tranche conserve une précision de traitement adaptée aux processus de semi-conducteurs de haute précision.

Les mandrins électrostatiques en céramique offrent une large compatibilité. Ils peuvent accueillir des tranches de différentes tailles et matériaux, notamment le silicium, l'arséniure de gallium et le carbure de silicium, répondant ainsi à divers besoins de fabrication de semi-conducteurs.

Contrairement aux mandrins mécaniques, les mandrins électrostatiques en céramique réduisent les pièces mécaniques mobiles, réduisent l'impact des contaminants particulaires sur la qualité des plaquettes, protègent efficacement la propreté de la surface des plaquettes et améliorent le rendement du produit.

Les mandrins électrostatiques en céramique offrent une large compatibilité. Ils peuvent accueillir des tranches de différentes tailles et matériaux, notamment le silicium, l'arséniure de gallium et le carbure de silicium, répondant ainsi à divers besoins de fabrication de semi-conducteurs.

Ils peuvent fonctionner de manière stable dans des environnements de vide poussé tels que l'implantation ionique et le CVD, surmontant les limites des mandrins à vide traditionnels qui ne peuvent pas absorber les tranches dans un environnement sous vide et répondant parfaitement aux exigences des processus d'implantation ionique, de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et d'autres processus de fabrication de semi-conducteurs.