Mandrin ESC

Le mandrin Semicorex ESC utilise des forces électrostatiques pour maintenir un contrôle précis sur la position de la tranche, garantissant ainsi une haute précision et répétabilité dans les environnements de fabrication de semi-conducteurs. La conception du mandrin ESC, associée à sa sélection de matériaux robustes et à ses dimensions personnalisables, en fait un outil polyvalent et essentiel dans des processus tels que la gravure, le dépôt et l'implantation ionique.

Le mandrin ESC fonctionne en appliquant un champ électrostatique à haute tension entre les électrodes du mandrin et la plaquette, créant une force d'attraction qui maintient la plaquette en place. La tranche, généralement constituée de silicium ou de carbure de silicium, est fixée par cette force, ce qui permet des opérations précises dans des environnements sous vide poussé. Ce système élimine le besoin de serrage mécanique ou de serrage sous vide, qui peuvent introduire des contaminants ou déformer la tranche. En utilisant un mandrin ESC, les fabricants peuvent obtenir un environnement plus propre et plus stable pour les processus de fabrication délicats, conduisant à des rendements plus élevés et à des résultats plus cohérents.

L'un des principaux avantages de la technologie ESC est sa capacité à maintenir une prise ferme sur la plaquette tout en répartissant la force uniformément sur sa surface. Cela garantit que la tranche reste plate et stable, ce qui est crucial pour obtenir une gravure ou un dépôt uniforme, en particulier dans les processus où une précision submicronique est requise. Les dimensions personnalisables du mandrin ESC lui permettent d'accueillir des tranches de différentes tailles, des tranches standard de 200 mm et 300 mm aux tailles spécialisées non standard utilisées dans la recherche et le développement ou dans la production de dispositifs semi-conducteurs de niche.

Les matériaux utilisés dans la construction du mandrin ESC sont soigneusement sélectionnés pour garantir la compatibilité avec les environnements difficiles généralement rencontrés dans le traitement des semi-conducteurs. L'alumine céramique de haute pureté est utilisée en raison de ses excellentes propriétés d'isolation électrique, de sa stabilité thermique et de sa résistance à la corrosion plasmatique. Ces propriétés permettent au mandrin de fonctionner efficacement dans des conditions de haute température et de vide poussé, offrant ainsi la durabilité et la fiabilité requises pour une utilisation à long terme dans un environnement de salle blanche.

La personnalisation est un autre avantage important des mandrins ESC. En fonction des exigences spécifiques d'un processus de fabrication de semi-conducteurs, les dimensions du mandrin, les configurations d'électrodes et les compositions de matériaux peuvent être adaptées pour répondre aux besoins uniques de l'équipement et des tranches en cours de traitement. Que l'application implique une gravure au plasma, un dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou un dépôt physique en phase vapeur (PVD), le mandrin ESC peut être conçu pour optimiser les performances et maintenir l'intégrité de la tranche pendant le traitement.