Couvercle sic

Le couvercle SIC semicoréx est une partie vitale conçue spécifiquement pour le traitement des semi-conducteurs. Il est conçu pour les environnements les plus difficiles de l'épitaxie, de l'implantation ionique et des applications à haute température. Il est fabriqué à partir de carbure de silicium Ultra-Pure qui a des propriétés de matériaux extrêmement stables et une précision conçue. La cohérence, la durabilité et la propreté à long terme sont les principales raisons de sélectionner le couvercle SIC semi-orecore pour une utilisation dans les processus avancés de fabrication de semi-conducteurs.

Carbure de silicium (sic)A une gamme de propriétés uniques par rapport à la céramique traditionnelle ou aux matériaux métalliques. L'un des principaux avantages du SIC est sa résistance aux températures élevées. Le SIC peut maintenir son intégrité structurelle et sa stabilité mécanique - pendant de longues périodes même à des températures élevées. Cela rend le SIC idéal pour des processus tels que le dépôt chimique du dépôt de vapeur (CVD) ou l'implantation d'ions à haute énergie. Les métaux et les plastiques se déformeraient, s'oxyderaient ou contamineraient à des températures extrêmes, tandis que le SIC maintiendra sa stabilité dimensionnelle et n'interagira pas positivement avec les plaquettes traitées.

La résistance chimique est une autre caractéristique distinctive des couvercles SIC. Dans le traitement des semi-conducteurs, les environnements que vous pourriez rencontrer avec des gaz corrosifs, des plasma ou des produits chimiques réactifs ne sont pas rares. Dans ces scénarios, la surface SIC fournira une barrière inerte pour résister à ces contaminants de dégrader la surface au fil du temps, ce qui entraîne une durée de vie plus efficace. Cette longévité équivaut à des coûts de maintenance réduits, à la réduction des temps d'arrêt de l'équipement et à la répétabilité entre les cycles de processus prolongés. Ces facteurs font du couvercle SIC une meilleure option pour les FAB qui nécessitent une production continue et à haut rendement par rapport aux matériaux traditionnels.

Tout comme la résistance chimique, la pureté est également primordiale dans l'application semi-conductrice. La présence de contaminants de traces peut avoir un impact négatif sur les performances et le rendement de l'appareil. Le couvercle SIC est fabriqué à partir de matériaux de carbure de silicium de haute pureté qui exclut la possibilité d'impuretés métalliques qui coulent dans l'environnement de processus. En outre, il est garanti d'être aussi propre que possible et stable qu'il le concerne aux contaminants et aux forces extérieures ayant un impact sur les performances du couvercle, ce qui est essentiel pour répondre aux exigences de fabrication des semi-conducteurs d'aujourd'hui, où les objets de niveau nanométrique doivent être définis avec une précision et un contrôle sans dimension des contaminants. La flexibilité offerte par le couvercle SIC est une valeur supplémentaire. Chaque composant peut être conçu pour les besoins d'un client spécifique en ce qui concerne la taille, la géométrie et la finition de surface. Cela garantit que le couvercle peut être facilement intégré et intégré à différents modèles d'équipement et outils de processus.

La précision de l'usinage deSicLes couvercles améliorent encore la valeur des couvercles SIC. Les outils semi-conducteurs nécessitent la précision mécanique la plus élevée en raison de grandes fluctuations de la compatibilité dimensionnelle et de l'uniformité de surface, même les variances mineures d'uniformité et d'épaisseur de matériau peuvent compromettre gravement les consistances de processus d'un outil, le débit et la qualité du produit. Via des technologies avancées dans le traitement des matériaux, les couvercles sic ont une planéité, une uniformité de surface et des tolérances qui dépassent les normes conventionnelles de l'industrie, offrant une épaisseur de surface mécanique de la surface de, généralement, des milliers / milliers de pouces (TIR). La planéité élevée permet de sceller un ajustement mécanique ainsi que l'assurance des limites de qualité de laboratoire aux conditions du processus de production peut être reproduite. Cela est particulièrement apparent dans les FAB à volume élevé où l'accent mis sur la répétabilité des conditions est crucial pour les performances des appareils semi-conducteurs. Lorsque vous poursuivez l'ingénierie de précision, il parle directement pour l'optimisation des rendements. Lorsque les couvercles SIC sont en usage pratique typique, par exemple, en épitaxie où le couvercle SIC se trouve thermiquement et chimiquement stable pour se mettre dans le réacteur, ou dans un système d'implantation ionique pour résister Les couvercles SIC sont destinés à être synonymes dans la production de semi-conducteurs à l'état solide.

Le couvercle SIC semicoréx représente le meilleur de la science des matériaux et de l'ingénierie des matériaux, et offre les meilleures performances possibles dans l'environnement semi-conducteur, parmi leurs tolérances à haute température, résistance chimique, pureté idéale, fabrications personnalisées, travaux d'usinage précis, le couvercle SIC se produira.