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Réservoir de nettoyage

Réservoir de nettoyage

Le réservoir de nettoyage Semicorex, un composant essentiel du processus de fabrication des semi-conducteurs, est conçu avec précision et expertise pour répondre aux exigences rigoureuses de l'industrie. Semicorex s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine*.

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Description du produit

Le réservoir de nettoyage Semicorex est fabriqué à partir de quartz de haute qualité et offre des performances et une fiabilité inégalées, garantissant que les plaquettes semi-conductrices sont soigneusement nettoyées et exemptes de tout contaminant susceptible de compromettre leur intégrité.

Le quartz est choisi pour la construction du réservoir de nettoyage en raison de sa résistance chimique et de sa stabilité thermique exceptionnelles. Le réservoir de nettoyage en quartz résiste aux produits chimiques agressifs couramment utilisés dans les processus de nettoyage, tels que l'acide fluorhydrique et d'autres agents de gravure puissants. Sa stabilité thermique garantit qu'il peut résister aux températures élevées souvent requises dans le traitement des semi-conducteurs sans se déformer ni se dégrader, conservant ainsi son intégrité structurelle et ses performances sur de longues périodes.

La conception du réservoir de nettoyage est méticuleusement étudiée pour optimiser le processus de nettoyage. Son intérieur lisse et sans couture minimise la génération de particules et empêche l'accumulation de contaminants. Le réservoir de nettoyage est conçu pour s'adapter à diverses méthodes de nettoyage, notamment les bains chimiques, le nettoyage par ultrasons et le nettoyage mégasonique. Chaque méthode a ses avantages spécifiques, et la polyvalence du réservoir de nettoyage lui permet d'être utilisé dans plusieurs étapes du processus de nettoyage, du nettoyage initial de la plaquette au rinçage final et au séchage.

Dans les bains chimiques, le réservoir de nettoyage garantit que les plaquettes sont uniformément exposées aux solutions de nettoyage, favorisant ainsi un nettoyage cohérent et approfondi. L'exposition uniforme est essentielle pour éliminer les particules, les résidus organiques et les contaminants métalliques de la surface de la tranche. Lors du nettoyage par ultrasons et mégasoniques, les ondes sonores à haute fréquence créent des bulles de cavitation microscopiques dans la solution de nettoyage. Lorsque ces bulles s’effondrent, elles génèrent de puissantes ondes de choc qui délogent et éliminent les contaminants de la surface de la plaquette. La construction robuste en quartz du réservoir de nettoyage peut résister aux conditions intenses générées par ces méthodes de nettoyage, garantissant ainsi une durabilité et une efficacité à long terme.


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