La gravure sèche est une technologie principale dans les procédés de fabrication de systèmes micro-électromécaniques. Les performances du processus de gravure sèche exercent une influence directe sur la précision structurelle et les performances opérationnelles des dispositifs semi-conducteurs. Pour......
En savoir plusLa gravure sèche est généralement un processus combinant des actions physiques et chimiques, le bombardement ionique étant une technique de gravure physique cruciale. Lors de la gravure, l'angle d'incidence et la répartition de l'énergie des ions peuvent être inégaux.
En savoir plusLa glissière aérostatique en carbure de silicium est un système de guidage avancé qui combine les propriétés matérielles du carbure de silicium et de la technologie aérostatique. En tant que solution optimale pour les systèmes de mouvement de haute précision, de haute fiabilité et à long terme, la g......
En savoir plusLa méthode principale de préparation de monocristaux de carbure de silicium est la méthode de transport physique de vapeur (PVT). Cette méthode consiste principalement en une cavité de tube de quartz, un élément chauffant (bobine à induction ou élément chauffant en graphite), un matériau isolant en ......
En savoir plusSOI, abréviation de Silicon-On-Insulator, est un processus de fabrication de semi-conducteurs basé sur des matériaux de substrat spéciaux. Depuis son industrialisation dans les années 1980, cette technologie est devenue une branche importante des procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs.......
En savoir plusLe mandrin électrostatique remplit de multiples fonctions telles que la décharge électrostatique uniforme, la conduction thermique, l'adsorption et la fixation de plaquettes dans le domaine de la fabrication de semi-conducteurs. L'une des fonctions principales de l'ESC est d'adsorber de manière stab......
En savoir plus