Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) fait référence à une technologie de processus dans laquelle plusieurs réactifs gazeux à des pressions partielles variées subissent une réaction chimique dans des conditions de température et de pression spécifiques. La substance solide résultante se dépose sur......
En savoir plusDans les domaines de l’électronique moderne, de l’optoélectronique, de la microélectronique et des technologies de l’information, les substrats semi-conducteurs et les technologies épitaxiales sont indispensables. Ils constituent une base solide pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs ha......
En savoir plusLe composant du four de croissance cristalline SiC de Semicorex, le baril de graphite poreux, apportera trois avantages majeurs et pourra renforcer efficacement la compétitivité des substrats SiC nationaux :
En savoir plusRécemment, notre société a annoncé qu'elle avait développé avec succès un monocristal d'oxyde de gallium de 6 pouces en utilisant la méthode de coulée, devenant ainsi la première entreprise industrielle nationale à maîtriser la technologie de préparation de substrat monocristallin d'oxyde de gallium......
En savoir plusLe processus de croissance du silicium monocristallin se produit principalement dans un champ thermique, où la qualité de l'environnement thermique a un impact significatif sur la qualité des cristaux et l'efficacité de la croissance. La conception du champ thermique joue un rôle central dans la for......
En savoir plusAfin de présenter le suscepteur en graphite revêtu de SiC, il est important de comprendre son application. Lors de la fabrication de dispositifs, des couches épitaxiales supplémentaires doivent être construites sur certains substrats de tranches.
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