Nouvelles

L'homoépitaxie et l'hétéroépitaxie expliquées simplement

L'homoépitaxie et l'hétéroépitaxie jouent un rôle central dans la science des matériaux. L'homoépitaxie implique la croissance d'une couche cristalline sur un substrat du même matériau, garantissant des défauts minimes grâce à une parfaite adaptation du réseau. En revanche, l’hétéroépitaxie fait cro......

Qu’est-ce que la gravure plasma à basse température ?

Le plasma est le quatrième état de la matière et il joue un rôle crucial tant dans les applications industrielles que dans les phénomènes naturels.

La structure du mandrin électrostatique (ESC)

Un mandrin électrostatique (ESC) est un dispositif utilisé pour maintenir les tranches semi-conductrices en place pendant des processus tels que la gravure, le dépôt ou le polissage.

Wolfspeed suspend les projets de construction d'une usine allemande de semi-conducteurs

Selon les médias allemands, le fabricant américain de puces Wolfspeed suspendrait son projet de construire une usine de semi-conducteurs en Allemagne.

Comment est fabriqué le carbure de silicium ?

Polissage final de la surface de la plaquette de silicium

Pour répondre aux exigences de haute qualité des processus de circuits de puces IC avec des largeurs de lignes inférieures à 0,13 μm à 28 nm pour des tranches de polissage de silicium de 300 mm de diamètre, il est essentiel de minimiser la contamination par des impuretés, telles que des ions métalli......