Dans le processus de préparation des plaquettes, il existe deux maillons essentiels : l'un est la préparation du substrat et l'autre est la mise en œuvre du processus d'épitaxie. Le substrat, une tranche soigneusement constituée d'un matériau monocristallin semi-conducteur, peut être directement int......
En savoir plusLe dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technique polyvalente de dépôt de couches minces largement utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour fabriquer des films minces conformes de haute qualité sur divers substrats. Ce processus implique des réactions chimiques de précurseurs gaze......
En savoir plusLe silicium est un matériau solide doté de certaines propriétés électriques semi-conductrices et d'une stabilité physique, et fournit un support de substrat pour le processus de fabrication ultérieur des circuits intégrés. C'est un matériau clé pour les circuits intégrés à base de silicium. Plus de ......
En savoir plusCet article examine l'utilisation et la trajectoire future des bateaux en carbure de silicium (SiC) par rapport aux bateaux en quartz dans l'industrie des semi-conducteurs, en se concentrant spécifiquement sur leurs applications dans la fabrication de cellules solaires.
En savoir plusLa croissance de tranches épitaxiales en nitrure de gallium (GaN) est un processus complexe, utilisant souvent une méthode en deux étapes. Cette méthode implique plusieurs étapes critiques, notamment la cuisson à haute température, la croissance de la couche tampon, la recristallisation et le recuit......
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