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Produits
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Plateau de plaquettes SiC
Le plateau de plaquettes Semicorex SiC est un atout essentiel dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD), méticuleusement conçu pour supporter et chauffer les plaquettes semi-conductrices pendant l'étape essentielle du dépôt de couche épitaxiale. Ce plateau fait partie intégrante de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, où la précision de la croissance des couches est de la plus haute importance. Chez Semicorex, nous nous engageons à fabriquer et à fournir des plateaux de plaquettes SiC hautes performances qui allient qualité et rentabilité.
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Sucepteurs du MOCVD
Les suscepteurs MOCVD de Semicorex incarnent le summum du savoir-faire, de l'endurance et de la fiabilité pour l'épitaxie complexe du graphite et les tâches précises de manipulation de plaquettes. Ces suscepteurs sont réputés pour leur haute densité, leur planéité exceptionnelle et leur contrôle thermique supérieur, ce qui en fait le premier choix pour les environnements de fabrication exigeants. Chez Semicorex, nous nous engageons à fabriquer et à fournir des suscepteurs MOCVD hautes performances qui allient qualité et rentabilité.
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Plaque pour croissance épitaxiale
La plaque Semicorex pour la croissance épitaxiale constitue un élément essentiel spécialement conçu pour répondre aux subtilités des processus épitaxiaux. Personnalisable pour répondre à des spécifications et préférences distinctes, notre offre offre une solution personnalisée qui s'adapte parfaitement à vos besoins opérationnels uniques. Nous proposons une gamme d'options de personnalisation, allant des modifications de taille aux variations dans l'application du revêtement, nous permettant de concevoir et de fournir un produit capable d'améliorer les performances dans divers scénarios d'application. Chez Semicorex, nous nous engageons à fabriquer et à fournir des plaques hautes performances pour la croissance épitaxiale qui allient qualité et rentabilité.
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Support de plaquette pour MOCVD
le support de plaquette Semicorex pour MOCVD, conçu pour les besoins précis du dépôt chimique en phase vapeur de métaux organiques (MOCVD), apparaît comme un outil indispensable dans le traitement du Si ou du SiC monocristallin pour les circuits intégrés à grande échelle. Le support de plaquette pour composition MOCVD présente une pureté inégalée, une résistance aux températures élevées et aux environnements corrosifs, ainsi que des propriétés d'étanchéité supérieures pour maintenir une atmosphère vierge. Chez Semicorex, nous nous engageons à fabriquer et à fournir des supports de plaquettes hautes performances pour MOCVD qui allient qualité et rentabilité.
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Poudre de SiC
La poudre Semicorex SiC, également connue sous le nom de poudre de carbure de silicium, est un matériau finement broyé principalement composé de carbure de silicium en phase α de type N. Semicorex s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
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Poudre de carbure de silicium de type N
La poudre de carbure de silicium (SiC) de type N Semicorex est un matériau SiC dopé de haute pureté spécialement conçu pour les applications avancées de croissance cristalline. Semicorex s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
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