CVD Coat Waffer

Le porte-plaquette de revêtement CVD semicorex est une partie haute performance, conçue pour soutenir et maintenir des plaquettes pendant la croissance précise des matériaux semi-conducteurs à l'aide de processus d'épitaxie. Il est recouvert de carbure de tantale (TAC), qui contribue à sa durabilité et à sa fiabilité exceptionnelles dans des conditions exigeantes.

Caractéristiques clés:

Revêtement en carbure de tantale: Le revêtement du porte-galerie avec du carbure de tantale (TAC) est dû à sa dureté, à sa résistance à l'usure et à sa stabilité thermique. Ce revêtement contribue de manière significative à la capacité du produit à résister à des environnements chimiques rigoureux ainsi qu'aux températures élevées et trouve une application dans le port de ce qui est requis par la fabrication de semi-conducteurs.

Technologie de revêtement supercritique: le revêtement est appliqué à l'aide d'une méthode de dépôt de liquide supercritique qui garantit la couche uniforme et dense de TAC. La technologie de revêtement avancée offre une meilleure adhésion et une meilleure réduction des défauts, offrant un revêtement de haute qualité et durable avec une longévité assurée.

Épaisseur de revêtement: Le revêtement TAC peut atteindre une épaisseur allant jusqu'à 120 microns, offrant un équilibre idéal de durabilité et de précision. Cette épaisseur garantit que le support de plaquette peut résister à des températures, des pressions et des environnements réactifs élevés sans compromettre son intégrité structurelle.

Excellente stabilité thermique: le revêtement en carbure de tantale offre une stabilité thermique exceptionnelle, permettant au support de plaquette de fonctionner de manière fiable dans les conditions à haute température typiques des processus d'épitaxie semi-conducteurs. Cette caractéristique est cruciale pour maintenir des résultats cohérents et assurer la qualité du matériau semi-conducteur.

Corrosion et résistance à l'usure: Le revêtement TAC offre une excellente résistance à la corrosion et à l'usure, garantissant que le support de plaquette peut supporter l'exposition aux gaz réactifs et aux produits chimiques que l'on trouve couramment dans les processus de semi-conducteurs. Cette durabilité prolonge la durée de vie du produit et réduit le besoin de remplacements fréquents, améliorant l'efficacité opérationnelle.

Applications:

Le support de plaquette de revêtement CVD est spécialement conçu pour les processus d'épitaxie semi-conducteurs, où un contrôle précis et une intégrité des matériaux sont essentiels. Il est utilisé dans des techniques telles que l'épitaxie du faisceau moléculaire (MBE), le dépôt de vapeur chimique (CVD) et le dépôt de vapeur chimique en métal-organique (MOCVD), où le support de plaquette doit résister à des températures extrêmes et des environnements réactifs.

Dans l'épitaxy semi-conducteur, la précision est cruciale pour cultiver des films minces de haute qualité sur un substrat. Le support de plaquette de revêtement CVD garantit que les plaquettes sont en toute sécurité soutenues et maintenues dans des conditions optimales, contribuant à la production cohérente de matériaux semi-conducteurs de haute qualité.

Le porte-plaquette de revêtement CVD semicorex est conçu à l'aide de matériaux de pointe et de technologies de revêtement avancées pour répondre aux exigences élevées de l'épitaxy semi-conducteur. L'utilisation du dépôt de liquide supercritique pour un revêtement TAC épais et uniforme assure la durabilité, la précision et la longévité inégalées. Avec sa résistance thermique et chimique supérieure, notre support de plaquette est conçu pour offrir des performances fiables dans les environnements les plus difficiles, contribuant à améliorer l'efficacité de vos processus de fabrication de semi-conducteurs.