Pommeaux de douche CVD SiC

Les pommes de douche Semicorex CVD SiC sont utilisées pour la gravure CCP. Les graveurs CCP utilisent deux électrodes parallèles (une mise à la terre, l'autre connectée à une source d'alimentation RF) pour générer du plasma. Le plasma est maintenu entre les deux électrodes par le champ électrique qui les sépare. Les électrodes et la plaque de distribution de gaz sont intégrées en un seul composant. Le gaz de gravure est pulvérisé uniformément sur la surface de la tranche à travers de petits trous dans les pommes de douche CVD SiC. Simultanément, une tension RF est appliquée à la pomme de douche (également à l'électrode supérieure). Cette tension génère un champ électrique entre les électrodes supérieure et inférieure, excitant le gaz pour former un plasma. Cette conception aboutit à une structure plus simple et plus compacte tout en assurant une distribution uniforme des molécules de gaz et un champ électrique uniforme, permettant une gravure uniforme même sur de grandes tranches.

Les pommes de douche CVD SiC peuvent également être appliquées en gravure ICP. Les graveurs ICP utilisent une bobine d'induction (généralement un solénoïde) pour générer un champ magnétique RF, qui induit le courant et le plasma. Les pommes de douche CVD SiC, en tant que composant distinct, sont chargées de délivrer uniformément le gaz de gravure dans la région du plasma.

La pomme de douche CVD SiC est un composant de haute pureté et fabriqué avec précision pour les équipements de traitement des semi-conducteurs qui est fondamental pour la distribution de gaz et la capacité des électrodes. Grâce à la fabrication par dépôt chimique en phase vapeur (CVD), la pomme de douche atteint l'exception

pureté al des matériaux et un contrôle dimensionnel exceptionnel qui répond aux exigences rigoureuses de la future fabrication de semi-conducteurs.