Pommeau de douche CVD-SiC

Dans le contexte d'une pomme de douche CVD, une pomme de douche CVD-SiC est généralement conçue pour répartir uniformément les gaz précurseurs sur la surface du substrat pendant le processus CVD. La pomme de douche est généralement positionnée au-dessus du substrat et les gaz précurseurs s’écoulent à travers de petits trous ou buses situés à sa surface.

Le matériau CVD-SiC utilisé dans la pomme de douche offre plusieurs avantages. Sa conductivité thermique élevée aide à dissiper la chaleur générée pendant le processus CVD, assurant une répartition uniforme de la température sur le substrat. De plus, la stabilité chimique du SiC lui permet de résister aux gaz corrosifs et aux environnements difficiles couramment rencontrés dans les processus CVD.

La conception d'une pomme de douche CVD-SiC peut varier en fonction du système CVD spécifique et des exigences du processus. Cependant, il se compose généralement d’un composant en forme de plaque ou de disque avec un ensemble de trous ou de fentes percés avec précision. La configuration et la géométrie des trous sont soigneusement conçues pour garantir une distribution et des débits de gaz uniformes sur la surface du substrat.