Tubes de four pour LPCVD

Le procédé LPCVD est un procédé de dépôt de couches minces réalisé dans des conditions de vide à basse pression (généralement allant de 0,1 à 1 Torr). Ces conditions de fonctionnement sous vide à basse pression peuvent contribuer à favoriser la diffusion uniforme des gaz précurseurs sur la surface de la plaquette, ce qui la rend idéale pour le dépôt précis de matériaux tels que Si₃N₄, poly-Si, SiO₂, PSG et certains films métalliques tels que le tungstène.

Tubes de foursont les composants essentiels du LPCVD, qui servent de chambres de création stables pour le traitement des tranches LPCVD et contribuent à une uniformité exceptionnelle du film, une couverture d'étape exceptionnelle et une qualité de film élevée des tranches semi-conductrices.

Les avantages des tubes de four Semicorex pour LPCVD

1. performances d'étanchéité fiables

Les tubes de four Semicorex pour LPCVD sont fabriqués à l'aide de la technologie d'impression 3D, avec une structure intégrale et sans couture. Cette structure intégrale sans faiblesse évite les coutures et les risques de fuite associés aux processus traditionnels de soudage ou d'assemblage, garantissant ainsi une meilleure étanchéité du processus.  Les tubes de four Semicorex pour LPCVD sont particulièrement adaptés aux processus LPCVD à basse pression et haute température, ce qui permet d'éviter considérablement les fuites de gaz de procédé et l'intrusion d'air extérieur.

2. Excellentes propriétés thermiques

Fabriqués à partir de matières premières de qualité semi-conductrice de haute qualité, les tubes de four Semicorex pour le LPCVD présentent une conductivité thermique élevée et une excellente résistance aux chocs thermiques. Ces propriétés thermiques exceptionnelles permettent aux tubes de four Semicorex pour le LPCVD de fonctionner de manière stable à des températures allant de 600 à 1 100 °C et d'assurer une répartition uniforme de la température pour un traitement thermique des tranches de haute qualité.

3. Contrôle strict de la propreté

Semicorex contrôle la propreté des tubes du four dès l’étape de sélection des matériaux. L'utilisation de matières premières de haute pureté confère aux tubes de four Semicorex pour LPCVD une faible teneur en impuretés inégalée. Le niveau d'impuretés du matériau de matrice est contrôlé en dessous de 100 PPM et le matériau de revêtement CVD SiC est maintenu en dessous de 1 PPM. De plus, chaque tube de four est soumis à une inspection de propreté rigoureuse avant la livraison afin d'éviter toute contamination par des impuretés pendant le processus LPCVD.

4. protection de revêtement uniforme et dense

Grâce au dépôt chimique en phase vapeur, les tubes de four Semicorex pour LPCVD sont fermement recouverts d'un revêtement SiC dense et uniforme. CesRevêtements CVD SiCprésentent une forte adhérence, qui prévient efficacement les risques de pelage du revêtement et de dégradation des composants, même lorsqu'ils sont exposés à des conditions difficiles de haute température et corrosives.