Palette en porte-à-faux SiC de haute pureté

La palette cantilever SiC de haute pureté Semicorex est fabriquée parCéramique de carbure de silicium, généralement le SiSiC. Il s'agit d'un SiC produit par procédé d'infiltration de silicium, procédé qui donnecéramique de carbure de siliciummatériaux avec une meilleure résistance et performance. La palette cantilever SiC de haute pureté doit son nom à sa forme, il s'agit d'une longue bande, avec un ventilateur latéral. La forme est conçue pour supporter des bateaux à plaquettes horizontaux dans un four à haute température.

Il est principalement utilisé en oxydation, diffusion, RTA/RTP dans le processus de fabrication de semi-conducteurs. L’atmosphère est donc composée d’oxygène (gaz réactif), d’azote (gaz de protection) et d’une petite quantité de chlorure d’hydrogène. La température est d'environ 1250°C. Il s'agit donc d'un environnement d'oxydation à haute température. Il faut que la pièce dans cet environnement soit résistante à l'oxydation et puisse supporter des températures élevées.

La palette cantilever SiC de haute pureté Semicorex est fabriquée par impression 3D, il s'agit donc d'un moulage d'une seule pièce et elle peut répondre aux exigences élevées en matière de taille et de traitement. La palette en porte-à-faux sera constituée de 2 parties, le corps et son revêtement, Semicorex peut fournir la teneur en impuretés <300pm pour le corps, et <5ppm pour le revêtement CVD SiC. La surface est donc d'une pureté ultra élevée pour empêcher l'introduction d'impuretés et de contaminants. Également un matériau à haute résistance aux chocs thermiques, pour conserver sa forme pendant une longue durée de vie.

Semicorex effectue un processus de fabrication très précieux. Concernant le corps SiC, nous préparons d'abord la matière première et mélangeons la poudre de SiC, puis effectuons le moulage et l'usinage jusqu'à la forme finale, après quoi nous fritterons la pièce pour améliorer la densité et de nombreuses propriétés chimiques. Le corps principal est formé et nous effectuerons l’inspection de la céramique elle-même et pour répondre aux exigences dimensionnelles. Après cela, nous ferons le ménage important. Mettez la palette en porte-à-faux qualifiée dans l'équipement à ultrasons pour le nettoyage afin d'éliminer la poussière et l'huile sur la surface. Après le nettoyage, placez la palette cantilever SiC de haute pureté dans une étuve et faites-la cuire à 80-120°C pendant 4 à 6 heures jusqu'à ce que l'eau soit séchée.

Ensuite, nous pouvons effectuer un revêtement CVD sur le corps. La température du revêtement est de 1 200 à 1 500 ℃ et une courbe de chauffage appropriée est sélectionnée. À haute température, la source de silicium et la source de carbone réagissent chimiquement pour générer des particules de SiC à l'échelle nanométrique. Les particules de SiC se déposent continuellement à la surface du

partie pour former une fine couche dense de SiC. L'épaisseur du revêtement est généralement de 100 ± 20 μm. Après finition, l'inspection finale des produits sera organisée, pour l'apparence, la pureté et les dimensions des produits, etc.