Suscepteur de plaquette de silicium monocristallin

Notre suscepteur épitaxial de silicium monocristallin est un produit en graphite recouvert de SiC de haute pureté, qui présente une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion. Le support revêtu de carbure de silicium CVD est utilisé dans les processus qui forment la couche épitaxiale sur les tranches semi-conductrices. Il possède une conductivité thermique élevée et d’excellentes propriétés de répartition de la chaleur, essentielles pour des processus de fabrication de semi-conducteurs efficaces et précis.
L’une des principales caractéristiques de notre suscepteur de plaquette de silicium monocristallin est son excellente densité. Le substrat en graphite et la couche de carbure de silicium ont une bonne densité et peuvent jouer un bon rôle de protection dans les environnements de travail corrosifs et à haute température. Le suscepteur recouvert de carbure de silicium utilisé pour la croissance des monocristaux présente une très grande planéité de surface, ce qui est essentiel pour maintenir une production de tranches de haute qualité.
Une autre caractéristique importante de notre produit est sa capacité à réduire la différence de coefficient de dilatation thermique entre le substrat en graphite et la couche de carbure de silicium. Cela améliore efficacement la force de liaison, évitant ainsi les fissures et le délaminage. De plus, le substrat en graphite et la couche de carbure de silicium ont une conductivité thermique élevée et d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, garantissant une répartition uniforme de la chaleur pendant le processus de fabrication.
Notre suscepteur de plaquette de silicium monocristallin est également résistant à l'oxydation et à la corrosion à haute température, ce qui en fait un produit fiable et durable. Son point de fusion élevé garantit qu'il peut résister à l'environnement à haute température requis pour une fabrication efficace de semi-conducteurs.
En conclusion, le suscepteur de tranches de silicium monocristallin Semicorex est une solution ultra-pure, durable et fiable pour les processus d'épitaxie du graphite et de manipulation des tranches. Son excellente densité, sa planéité de surface et sa conductivité thermique le rendent idéal pour une utilisation dans des environnements corrosifs et à haute température. Nous sommes fiers de fournir des produits de haute qualité à des prix compétitifs et sommes impatients de collaborer avec vous pour tous vos besoins en matière de supports de plaquettes semi-conductrices.

Paramètres du suscepteur de plaquette de silicium monocristallin

Caractéristiques du suscepteur de plaquette de silicium monocristallin

- Éviter de se décoller et assurer un revêtement sur toutes les surfaces
Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C
Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.
Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.
Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.
- Obtenez le meilleur modèle de flux de gaz laminaire
- Garantir la régularité du profil thermique
- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés