Dans la fabrication de semi-conducteurs, l’implantation ionique consiste à utiliser des accélérateurs à haute énergie pour injecter des atomes d’impuretés spécifiques, tels que l’arsenic ou le bore, dans un substrat de silicium.
En savoir plusLa troisième génération de matériaux semi-conducteurs à large bande interdite, notamment le nitrure de gallium (GaN), le carbure de silicium (SiC) et le nitrure d'aluminium (AlN), présente d'excellentes propriétés électriques, thermiques et acousto-optiques. Ces matériaux répondent aux limites de la......
En savoir plusPour répondre aux exigences de hautes performances et de faible consommation d'énergie dans le domaine de la technologie moderne des semi-conducteurs, le SiGe (silicium germanium) est devenu un matériau composite de choix dans la fabrication de puces semi-conductrices en raison de ses propriétés phy......
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