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Produits
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Transporteur de plaquettes
Le support de plaquette en graphite à revêtement SiC Semicorex est conçu pour assurer une manipulation fiable des plaquettes pendant les processus de croissance épitaxiale des semi-conducteurs, offrant une résistance aux températures élevées et une excellente conductivité thermique. Grâce à une technologie de matériaux avancée et à un accent mis sur la précision, Semicorex offre des performances et une durabilité supérieures, garantissant des résultats optimaux pour les applications de semi-conducteurs les plus exigeantes.*
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Porte-plaquette en graphite
Le support de plaquette en graphite à revêtement SiC Semicorex est un composant haute performance conçu pour une manipulation précise des plaquettes dans les processus de croissance par épitaxie de semi-conducteurs. L'expertise de Semicorex dans les matériaux et la fabrication avancés garantit que nos produits offrent une fiabilité, une durabilité et une personnalisation inégalées pour une production optimale de semi-conducteurs.*
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Creuset en céramique AlN
Conçu pour résister à des conditions extrêmes, le creuset en céramique AlN présenté par Semicorex est un outil indispensable pour les professionnels travaillant avec des métaux non ferreux et des matériaux semi-conducteurs comme l'arséniure de gallium.
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Bateau en alumine
Alumina Boat de Semicorex trouve sa niche dans l'industrie des semi-conducteurs, les machines générales et les processus à haute température, s'avérant indispensable pour les professionnels en quête de fiabilité et de précision.
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Plaque en céramique SiC
La plaque céramique Semicorex SiC offre des performances inégalées dans les environnements nécessitant une résistance à l'usure, à la corrosion et une stabilité à haute température. Ce produit est conçu pour être utilisé comme plaques de revêtement et pièces de support dans une variété d'applications exigeantes.
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Plateau en carbure de silicium
Le plateau en carbure de silicium Semicorex est conçu pour résister à des conditions extrêmes tout en garantissant des performances remarquables. Il joue un rôle crucial dans le processus de gravure ICP, la diffusion des semi-conducteurs et le processus d'épitaxie MOCVD.
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