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Plaque support de gravure ICP

Plaque support de gravure ICP

La plaque support de gravure ICP de Semicorex est la solution parfaite pour les processus exigeants de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles d'écoulement de gaz laminaire. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des plaquettes immaculées.

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Support de plaquette pour le processus de gravure ICP

Support de plaquette pour le processus de gravure ICP

Le support de plaquette de Semicorex pour le processus de gravure ICP est le choix idéal pour les processus exigeants de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles de flux de gaz laminaires optimaux pour des résultats cohérents et fiables.

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Graphite enduit de carbone de silicium ICP

Graphite enduit de carbone de silicium ICP

Le graphite recouvert de carbone-silicium ICP de Semicorex est le choix idéal pour les processus exigeants de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles de flux de gaz laminaires optimaux.

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Système de gravure au plasma ICP pour le processus PSS

Système de gravure au plasma ICP pour le processus PSS

Choisissez le système de gravure plasma ICP de Semicorex pour le processus PSS pour des processus d'épitaxie et MOCVD de haute qualité. Notre produit est conçu spécifiquement pour ces processus, offrant une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des plaquettes immaculées.

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Plaque de gravure au plasma ICP

Plaque de gravure au plasma ICP

La plaque de gravure au plasma ICP de Semicorex offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion pour les processus de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit est conçu pour résister à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif, garantissant ainsi durabilité et longévité. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des plaquettes immaculées.

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Support de gravure ICP en carbure de silicium

Support de gravure ICP en carbure de silicium

Vous recherchez un support de plaquette fiable pour les processus de gravure ? Ne cherchez pas plus loin que le support de gravure ICP en carbure de silicium de Semicorex. Notre produit est conçu pour résister à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif, garantissant ainsi durabilité et longévité. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des plaquettes immaculées.

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