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Plateau de support de gravure PSS pour LED
Chez Semicorex, nous avons conçu le plateau support de gravure PSS pour LED spécifiquement pour les environnements difficiles requis par les processus de croissance épitaxiale et de manipulation des plaquettes. Notre support en graphite ultra-pur est idéal pour les phases de dépôt de couches minces comme le MOCVD, les suscepteurs d'épitaxie, les plates-formes pancake ou satellite, et les traitements de manipulation de tranches tels que la gravure. Le support revêtu de SiC présente une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion, d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur et une conductivité thermique élevée. Notre plateau de support de gravure PSS pour LED est rentable et offre un bon avantage en termes de prix. Nous desservons de nombreux marchés européens et américains et......
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Plaque support de gravure PSS pour semi-conducteur
La plaque support de gravure Semicorex PSS pour semi-conducteurs est spécialement conçue pour les environnements de nettoyage chimique à haute température et difficiles requis pour les processus de croissance épitaxiale et de manipulation de plaquettes. Notre plaque support de gravure PSS ultra-pure pour semi-conducteurs est conçue pour supporter les tranches pendant les phases de dépôt de couches minces comme les suscepteurs MOCVD et d'épitaxie, les plates-formes pancake ou satellite. Notre support revêtu de SiC présente une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion, d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur et une conductivité thermique élevée. Nous fournissons des solutions rentables à nos clients et nos produits couvrent de nombreux marchés européens et américains. S......
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Support de gravure PSS recouvert de SiC
Les supports de plaquettes utilisés dans le traitement de la croissance épixiale et de la manipulation des plaquettes doivent résister à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif. Support de gravure PSS avec revêtement SiC Semicorex conçu spécifiquement pour ces applications exigeantes d'équipement d'épitaxie. Nos produits ont un bon avantage de prix et couvrent de nombreux marchés européens et américains. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
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Suscepteur de baril revêtu de SiC pour la croissance épitaxiale LPE
Le suscepteur à baril revêtu de SiC Semicorex pour la croissance épitaxiale LPE est un produit haute performance conçu pour fournir des performances constantes et fiables sur une période prolongée. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épitaxiales de haute qualité sur des puces de tranche. Sa personnalisation et sa rentabilité en font un produit hautement compétitif sur le marché.
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Système Epi de récepteur de baril
Le système Semicorex Barrel Susceptor Epi est un produit de haute qualité qui offre une adhérence supérieure du revêtement, une pureté élevée et une résistance à l'oxydation à haute température. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épixiales sur des puces de tranche. Sa rentabilité et sa personnalisation en font un produit hautement compétitif sur le marché.
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Système de réacteur d'épitaxie en phase liquide (LPE)
Le système de réacteur d'épitaxie en phase liquide (LPE) Semicorex est un produit innovant qui offre d'excellentes performances thermiques, un profil thermique uniforme et une adhérence supérieure du revêtement. Sa haute pureté, sa résistance à l'oxydation à haute température et sa résistance à la corrosion en font un choix idéal pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses options personnalisables et sa rentabilité en font un produit hautement compétitif sur le marché.
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