- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Produits
- View as
Récepteur de disque SiC
Semicorex présente son suscepteur à disque SiC, conçu pour améliorer les performances des équipements d'épitaxie, de dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD) et de traitement thermique rapide (RTP). Le suscepteur de disque SiC méticuleusement conçu offre des propriétés qui garantissent des performances, une durabilité et une efficacité supérieures dans les environnements à haute température et sous vide.**
En savoir plusenvoyer une demande
Champ thermique du graphite
Semicorex Graphite Thermal Field combine la science des matériaux de pointe avec une compréhension approfondie des processus de croissance cristalline, il offre une solution innovante qui permet à l'industrie des semi-conducteurs d'atteindre de nouveaux niveaux de performances, d'efficacité et de rentabilité.**
En savoir plusenvoyer une demande
LPE SiC-Epi Demi-lune
Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon est un atout indispensable dans le monde de l'épitaxie, offrant une solution robuste aux défis posés par les températures élevées, les gaz réactifs et les exigences strictes de pureté.**
En savoir plusenvoyer une demande
Couverture de revêtement CVD TaC
Le revêtement Semicorex CVD TaC est devenu une technologie critique dans les environnements exigeants des réacteurs d'épitaxie, caractérisés par des températures élevées, des gaz réactifs et des exigences de pureté strictes, qui nécessitent des matériaux robustes pour garantir une croissance cristalline constante et éviter les réactions indésirables.**
En savoir plusenvoyer une demande
Outils de traction en graphite et silicium unique
Les outils d'extraction de silicium unique en graphite Semicorex émergent comme des héros méconnus dans le creuset enflammé des fours de croissance cristalline, où les températures montent en flèche et la précision règne en maître. Leurs propriétés remarquables, perfectionnées grâce à une fabrication innovante, les rendent essentiels pour faire exister un silicium monocristallin impeccable.**
En savoir plusenvoyer une demande
Anneau de guidage de revêtement TaC
L'anneau de guidage de revêtement Semicorex TaC constitue un élément primordial dans l'équipement de dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD), assurant la distribution précise et stable des gaz précurseurs pendant le processus de croissance épitaxiale. L'anneau de guidage du revêtement TaC représente une série de propriétés qui le rendent idéal pour résister aux conditions extrêmes rencontrées dans la chambre du réacteur MOCVD.**
En savoir plusenvoyer une demande
