Semicorex Semiconductor Quartz Bell Jar est un récipient spécialisé construit à partir d'un matériau de quartz de haute pureté. Sa conception est conçue pour répondre aux exigences strictes des processus de fabrication de semi-conducteurs, où la pureté et la propreté sont primordiales. Semicorex s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
Semicorex Semiconductor Quartz Bell Jar est généralement fabriqué à partir de quartz fondu synthétique, un matériau connu pour sa pureté exceptionnelle, sa résistance aux températures élevées et ses propriétés de faible dilatation thermique. Cela garantit que la chambre n'introduit pas de contaminants ou d'impuretés dans le processus de fabrication des semi-conducteurs.
La cloche à quartz semi-conductrice est généralement cylindrique ou en forme de dôme, avec une base plate ou légèrement incurvée pour accueillir des tranches ou des substrats semi-conducteurs. Il est doté d'un mécanisme d'étanchéité hermétique et conçu avec précision, tel qu'une bride ou un joint torique, pour maintenir un vide ou une atmosphère contrôlée à l'intérieur de la chambre pendant le traitement.
La cloche à quartz semi-conducteur offre une excellente clarté optique, permettant aux opérateurs de surveiller visuellement les processus à l'intérieur de la chambre sans compromettre la précision ni introduire d'interférences. Le quartz est très résistant aux attaques chimiques de la plupart des acides, bases et solvants couramment utilisés dans les processus de fabrication de semi-conducteurs. Cela garantit l’intégrité de la chambre et empêche la contamination des substrats.
Le quartz a un point de fusion et une stabilité thermique élevés, permettant au semi-conducteur Quartz Bell Jar de résister aux températures élevées rencontrées lors des processus de dépôt ou de recuit sans déformation ni dégradation.
Applications :
Dépôt : Les cloches à quartz semi-conducteurs sont utilisées dans diverses techniques de dépôt telles que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt de couche atomique (ALD) pour déposer des films minces de matériaux sur des substrats semi-conducteurs avec précision et uniformité.
Gravure : ils sont utilisés dans les processus de gravure au plasma pour éliminer sélectivement le matériau des tranches semi-conductrices, créant ainsi des motifs et des structures complexes avec une grande précision et répétabilité.
Recuit : les cloches sont utilisées dans les processus de recuit pour soumettre les tranches de semi-conducteurs à un traitement thermique contrôlé, facilitant la cristallisation, l'activation des dopants et la réduction des contraintes dans les films déposés.