La plaque planétaire à revêtement Semicorex TaC est un composant de haute précision conçu pour la croissance épitaxiale MOCVD, doté d'un mouvement planétaire avec plusieurs poches de tranches et d'un contrôle optimisé du flux de gaz. Choisir Semicorex, c'est accéder à une technologie de revêtement avancée et à une expertise en ingénierie qui offrent une durabilité, une pureté et une stabilité de processus exceptionnelles pour l'industrie des semi-conducteurs.*
La plaque planétaire à revêtement Semicorex TaC constitue un composant clé des réacteurs MOCVD, présentant une conception planétaire caractérisée par de nombreuses poches de tranches disposées le long de sa surface. Ces poches sont spécifiquement créées pour accueillir de manière fiable les tranches pendant la phase de croissance de toute couche épitaxiale, stabilisant les tranches de substrat et minimisant le mouvement du substrat sous des températures de processus élevées. La géométrie exacte de la poche permet un placement cohérent des tranches, ce qui est important pour une épaisseur uniforme des couches épitaxiales et des niveaux d'uniformité des défauts du substrat pour toutes les tranches cultivées au cours du même processus.
Un aspect important de la conception de la plaque planétaire, encore une fois, est la dispersion technique de fins trous d’écoulement de gaz le long de la surface de la plaque. Ces trous sont soigneusement conçus et stratégiquement positionnés spécifiquement pour mesurer le débit de gaz précurseurs dans le réacteur, de manière à obtenir une dispersion uniforme des gaz et un dépôt uniforme sur chaque tranche. Dans tout processus MOCVD, les aspects de la dynamique des gaz sont essentiels pour déterminer les qualités du film, l'uniformité de l'épaisseur et les performances globales du dispositif. La conception optimisée des trous sur leRevêtement TaCLa plaque planétaire garantit que toutes les tranches subissent les mêmes conditions de traitement, ce qui constitue un moyen optimal d'améliorer le rendement et la reproductibilité.
LeRevêtement TaC (carbure de tantale)prolonge encore les performances et la durée de vie de la plaque planétaire. Le carbure de tantale est extrêmement dur, chimiquement inerte et thermiquement conducteur, ce qui en fait un excellent revêtement pour les environnements MOCVD extrêmes. Pendant l'épitaxie, les composants du réacteur seront confrontés à des températures élevées, à des gaz précurseurs réactifs et à une exposition au plasma. Le revêtement TaC sert de barrière robuste contre la corrosion, l'oxydation et la génération de particules, ce qui entraîne une prolongation significative de la durée de vie de la plaque planétaire par rapport à une plaque non revêtue ou à revêtement conventionnel.
La longévité et la durabilité de la plaque planétaire à revêtement TaC en font un choix rentable pour les systèmes MOCVD. La couche TaC durable peut résister à des cycles thermiques répétés et à une exposition à des gaz de traitement extrêmes tout en conservant l'intégrité structurelle et la stabilité des performances tout en fonctionnant sur des périodes prolongées.
