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Produits
Semicorex est un fabricant et fournisseur professionnel en Chine. Notre usine fournit un suscepteur à baril, un suscepteur mocvd, un bateau à plaquettes, etc. Une conception extrême, des matières premières de qualité, des performances élevées et un prix compétitif sont ce que chaque client veut, et c'est aussi ce que nous pouvons vous offrir. Nous prenons une haute qualité, un prix raisonnable et un service parfait.
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Suscepteur de baril revêtu de SiC pour la croissance épitaxiale LPE
Le suscepteur à baril revêtu de SiC Semicorex pour la croissance épitaxiale LPE est un produit haute performance conçu pour fournir des performances constantes et fiables sur une période prolongée. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épitaxiales de haute qualité sur des puces de tranche. Sa personnalisation et sa rentabilité en font un produit hautement compétitif sur le marché.
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Système Epi de récepteur de baril
Le système Semicorex Barrel Susceptor Epi est un produit de haute qualité qui offre une adhérence supérieure du revêtement, une pureté élevée et une résistance à l'oxydation à haute température. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épixiales sur des puces de tranche. Sa rentabilité et sa personnalisation en font un produit hautement compétitif sur le marché.
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Système de réacteur d'épitaxie en phase liquide (LPE)
Le système de réacteur d'épitaxie en phase liquide (LPE) Semicorex est un produit innovant qui offre d'excellentes performances thermiques, un profil thermique uniforme et une adhérence supérieure du revêtement. Sa haute pureté, sa résistance à l'oxydation à haute température et sa résistance à la corrosion en font un choix idéal pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses options personnalisables et sa rentabilité en font un produit hautement compétitif sur le marché.
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Dépôt épitaxial CVD dans un réacteur à baril
Le dépôt épitaxial CVD Semicorex dans un réacteur baril est un produit très durable et fiable pour la croissance de couches épixiales sur des puces de plaquettes. Sa résistance à l’oxydation à haute température et sa grande pureté le rendent adapté à une utilisation dans l’industrie des semi-conducteurs. Son profil thermique uniforme, son flux de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour la croissance de couches épixiales de haute qualité.
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Dépôt épitaxial de silicium dans un réacteur à baril
Si vous avez besoin d'un suscepteur en graphite haute performance à utiliser dans des applications de fabrication de semi-conducteurs, le dépôt épitaxial de silicium Semicorex dans un réacteur en baril est le choix idéal. Son revêtement SiC de haute pureté et sa conductivité thermique exceptionnelle offrent des propriétés supérieures de protection et de répartition de la chaleur, ce qui en fait le choix idéal pour des performances fiables et constantes, même dans les environnements les plus difficiles.
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Système Epi à baril chauffé par induction
Si vous avez besoin d'un suscepteur en graphite doté de propriétés exceptionnelles de conductivité thermique et de répartition de la chaleur, ne cherchez pas plus loin que le système Epi à baril chauffé par induction Semicorex. Son revêtement SiC de haute pureté offre une protection supérieure dans les environnements corrosifs et à haute température, ce qui en fait le choix idéal pour une utilisation dans les applications de fabrication de semi-conducteurs.
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