Mandrin à plaquettes SiC

Semicorex SiC Wafer Chuck constitue le summum de l'innovation dans la fabrication de semi-conducteurs, servant de composant crucial dans le processus complexe de fabrication des semi-conducteurs. Fabriqué avec une précision méticuleuse et une technologie de pointe, ce mandrin joue un rôle indispensable dans le support et la stabilisation des tranches de carbure de silicium (SiC) au cours des différentes étapes de production. Semicorex s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Description du produit

Au cœur du SiC Wafer Chuck se trouve un mélange sophistiqué de matériaux, avec sa base en graphite et méticuleusement recouverte de SiC par dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Cette fusion de revêtement graphite et SiC garantit non seulement une durabilité et une stabilité thermique exceptionnelles, mais offre également une résistance inégalée aux environnements chimiques difficiles, préservant ainsi l'intégrité des délicates tranches semi-conductrices tout au long du processus de fabrication.

Le mandrin de plaquette SiC présente une conductivité thermique exceptionnelle, facilitant une dissipation efficace de la chaleur pendant le processus de fabrication des semi-conducteurs. Cette capacité minimise les gradients thermiques sur la surface de la tranche, garantissant une répartition uniforme de la température, essentielle pour obtenir des propriétés semi-conductrices précises. Grâce à l'intégration du revêtement CVD SiC, le SiC Wafer Chuck présente une résistance mécanique et une rigidité remarquables, capables de résister aux conditions exigeantes rencontrées lors du traitement des plaquettes. Cette robustesse minimise le risque de déformation ou de dommage, préservant l'intégrité des tranches semi-conductrices et maximisant les rendements de production.

Chaque mandrin de plaquette SiC subit un usinage de précision méticuleux, garantissant des tolérances serrées et une planéité optimale sur sa surface. Cette précision est essentielle pour obtenir un contact uniforme entre le mandrin et la tranche semi-conductrice, facilitant ainsi un serrage fiable de la tranche et garantissant des résultats de traitement cohérents.

Le mandrin de tranche SiC trouve une application répandue dans divers processus de fabrication de semi-conducteurs, notamment la croissance épitaxiale, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le traitement thermique. Sa polyvalence et sa fiabilité le rendent indispensable pour prendre en charge les plaquettes SiC lors des étapes critiques de fabrication, contribuant ainsi à la production de dispositifs semi-conducteurs avancés offrant des performances et une fiabilité inégalées.