Mandrin à vide SiC

Le mandrin à vide Semicorex SiC est un outil spécialement conçu qui maintient solidement les tranches de semi-conducteurs pendant les étapes de traitement critiques avec une stabilité et une fiabilité maximales. Le revêtement CVD SiC du mandrin à vide SiC offre une résistance mécanique, une résistance chimique et une stabilité thermique exceptionnelles, garantissant que les plaquettes délicates sont protégées de tout dommage ou contamination potentiel.

La combinaison unique de graphite et de revêtement SiC du mandrin à vide SiC offre une conductivité thermique élevée et un coefficient de dilatation thermique minimal. Cela permet une dissipation efficace de la chaleur et une répartition uniforme de la température sur la surface de la plaquette. Ces caractéristiques sont essentielles pour maintenir des conditions de traitement optimales et améliorer le rendement des processus de fabrication de semi-conducteurs.

Le mandrin SiC Vacuum est également compatible avec les environnements sous vide, garantissant une adhérence supérieure entre le mandrin et la plaquette. Cela élimine le risque de glissement ou de désalignement lors d’opérations de haute précision. Sa surface non poreuse et ses propriétés inertes empêchent en outre tout dégazage ou contamination par des particules, préservant ainsi la pureté et l'intégrité de l'environnement de fabrication des semi-conducteurs.

Le mandrin à vide Semicorex SiC est une technologie fondamentale dans la fabrication de semi-conducteurs, offrant des performances et une durabilité inégalées pour répondre aux demandes évolutives de l'industrie. Qu'elle soit utilisée en lithographie, gravure, dépôt ou autres processus critiques, cette solution avancée continue de redéfinir les normes d'excellence dans la manipulation et le traitement des plaquettes semi-conductrices.