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Système de gravure au plasma ICP pour le processus PSS

Système de gravure au plasma ICP pour le processus PSS

Choisissez le système de gravure au plasma ICP de Semicorex pour le processus PSS pour des processus d'épitaxie et MOCVD de haute qualité. Notre produit est conçu spécifiquement pour ces processus, offrant une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des wafers vierges.

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Voulez-vous acheter Al2O3-Wet-Etching avancé et durable ? Semicorex est certainement votre bon choix. Nous sommes reconnus comme l'un des fabricants et fournisseurs Al2O3-Wet-Etching les plus compétitifs en Chine. Nous fournissons également des emballages en vrac. Vous pouvez avoir besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins réels de votre région, vous pouvez nous laisser un message via les informations de contact sur la page Web. Nous invitons sincèrement les nouveaux et anciens clients à visiter notre usine pour consultation et négociation.
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