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Plateau de support de gaufrettes
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Plateau de support de gaufrettes

Semicorex fournit des céramiques de qualité semi-conductrice pour vos outils de semi-fabrication OEM et vos composants de manipulation de plaquettes en se concentrant sur les couches de carbure de silicium dans les industries des semi-conducteurs. Nous sommes fabricant et fournisseur de plateaux de support de plaquettes depuis de nombreuses années. Notre plateau de support de plaquettes présente un bon avantage en termes de prix et couvre la plupart des marchés européens et américains. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Description du produit

Non seulement pour les phases de dépôt de couches minces telles que l'épitaxie ou le MOCVD, ou pour le traitement de manipulation de tranches, Semicorex fournit un support céramique ultra-pur utilisé pour supporter les tranches. Au cœur du processus, les plateaux de support de plaquettes pour le MOCVD sont d'abord soumis à l'environnement de dépôt, ce qui leur confère une résistance élevée à la chaleur et à la corrosion. Le support revêtu de SiC présente également une conductivité thermique élevée et d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur.
Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre plateau de support de plaquettes.


Paramètres du plateau de support de plaquettes

Propriétés techniques

Indice

Unité

Valeur

Nom du matériau

Carbure de silicium fritté par réaction

Carbure de silicium fritté sans pression

Carbure de silicium recristallisé

Composition

RBSIC

SSIC

R-SiC

Densité apparente

g/cm3

3

3,15 ± 0,03

2,60-2,70

Résistance à la flexion

MPa (kpsi)

338(49)

380(55)

80-90 (20°C) 90-100(1400°C)

Résistance à la compression

MPa (kpsi)

1120(158)

3970(560)

> 600

Dureté

Bouton

2700

2800

/

Briser la ténacité

MPa m1/2

4.5

4

/

Conductivité thermique

W/m.k

95

120

23

Coefficient de dilatation thermique

10-6.1/°C

5

4

4.7

Chaleur spécifique

Joule/g 0k

0.8

0.67

/

Température maximale de l'air

1200

1500

1600

Module élastique

Gpa

360

410

240


La différence entre SSiC et RBSiC :

1. Le processus de frittage est différent. Le RBSiC consiste à infiltrer le Si libre dans le carbure de silicium à basse température, le SSiC est formé par retrait naturel à 2 100 degrés.

2. Les SSiC ont une surface plus lisse, une densité plus élevée et une résistance plus élevée. Pour certains joints ayant des exigences de surface plus strictes, le SSiC sera meilleur.

3. Temps d'utilisation différent sous différents pH et températures, SSiC est plus long que RBSiC


Caractéristiques du plateau de support de plaquettes

-Revêtements CVD en carbure de silicium pour améliorer la durée de vie.
- Isolation thermique en carbone rigide purifié haute performance.
- Le substrat en graphite et la couche de carbure de silicium ont une conductivité thermique élevée et d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur.
- Revêtement en graphite et SiC de haute pureté pour une résistance aux sténopés et une durée de vie plus longue


Formes disponibles de céramiques en carbure de silicium :

● Tige en céramique/goupille en céramique/piston en céramique

● Tube en céramique / bague en céramique / manchon en céramique

● Bague en céramique / rondelle en céramique / entretoise en céramique

● Disque en céramique

● Plaque en céramique / bloc en céramique

● Boule en céramique

● Piston en céramique

● Buse en céramique

● Creuset en céramique

● Autres pièces en céramique sur mesure



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