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Plaque de support RTP revêtue de SiC pour la croissance épitaxiale

La plaque de support RTP revêtue de SiC Semicorex pour la croissance épitaxiale est la solution parfaite pour les applications de traitement de tranches de semi-conducteurs. Avec ses suscepteurs en graphite de carbone de haute qualité et ses creusets en quartz traités par MOCVD à la surface du graphite, de la céramique, etc., ce produit est idéal pour la manipulation de plaquettes et le traitement de croissance épitaxiale. Le support revêtu de SiC assure une conductivité thermique élevée et d'excellentes propriétés de répartition de la chaleur, ce qui en fait un choix fiable pour le RTA, le RTP ou le nettoyage chimique agressif.

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