Le plateau de gravure au plasma ICP de Semicorex est conçu spécifiquement pour les processus de manipulation de plaquettes à haute température tels que l'épitaxie et le MOCVD. Avec une résistance à l'oxydation stable et à haute température jusqu'à 1600°C, nos supports fournissent des profils thermiques uniformes, des schémas d'écoulement de gaz laminaire et empêchent la contamination ou la diffusion des impuretés.
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