Lorsqu'il s'agit de processus de manipulation de plaquettes tels que l'épitaxie et le MOCVD, le revêtement SiC haute température de Semicorex pour les chambres de gravure au plasma est le premier choix. Nos supports offrent une résistance à la chaleur supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable grâce à notre revêtement en cristal SiC fin.
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