Lorsqu'il s'agit de processus de manipulation de plaquettes tels que l'épitaxie et le MOCVD, le revêtement SiC haute température de Semicorex pour les chambres de gravure au plasma est le premier choix. Nos supports offrent une résistance thermique supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable grâce à notre fin revêtement cristallin SiC.
Chez Semicorex, nous comprenons l'importance d'un équipement de manipulation de plaquettes de haute qualité. C'est pourquoi notre revêtement SiC haute température pour chambres de gravure plasma est conçu spécifiquement pour les environnements de nettoyage chimique difficiles et à haute température. Nos transporteurs fournissent des profils thermiques uniformes, des modèles d'écoulement de gaz laminaires et empêchent la contamination ou la diffusion d'impuretés.
Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre revêtement SiC haute température pour chambres de gravure plasma.
Paramètres du revêtement SiC haute température pour les chambres de gravure au plasma
Principales spécifications du revêtement CVD-SIC |
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Propriétés SiC-CVD |
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Structure cristalline |
Phase β du FCC |
|
Densité |
g/cm³ |
3.21 |
Dureté |
Dureté Vickers |
2500 |
Taille des grains |
µm |
2~10 |
Pureté chimique |
% |
99.99995 |
Capacité thermique |
J kg-1 K-1 |
640 |
Température de sublimation |
℃ |
2700 |
Force de flexion |
MPa (RT 4 points) |
415 |
Module de Young |
Gpa (courbure 4pt, 1300℃) |
430 |
Expansion thermique (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conductivité thermique |
(W/mK) |
300 |
Caractéristiques du revêtement SiC haute température pour les chambres de gravure au plasma
- Éviter de se décoller et assurer un revêtement sur toutes les surfaces
Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C
Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.
Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.
Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.
- Obtenez le meilleur modèle de flux de gaz laminaire
- Garantir la régularité du profil thermique
- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés