Le support revêtu de SiC de Semicorex pour le système de gravure au plasma ICP est une solution fiable et économique pour les processus de manipulation de tranches à haute température tels que l'épitaxie et le MOCVD. Nos supports sont dotés d'un revêtement en cristal SiC fin qui offre une résistance à la chaleur supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable.
En savoir plusenvoyer une demandeSemicorex SiC Coated ICP Etching Carrier spécialement conçu pour les équipements d'épitaxie à haute résistance à la chaleur et à la corrosion en Chine. Nos produits ont un bon avantage de prix et couvrent de nombreux marchés européens et américains. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
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