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Dépôt épitaxial CVD dans un réacteur à baril

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor est un produit hautement durable et fiable pour la croissance de couches épitaxiales sur des puces de plaquettes. Sa résistance à l'oxydation à haute température et sa grande pureté le rendent adapté à une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Son profil thermique uniforme, son schéma d'écoulement de gaz laminaire et sa prévention de la contamination en font un choix idéal pour une croissance de couche épixiale de haute qualité.

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Voulez-vous acheter Single-Wafer-Carrier avancé et durable ? Semicorex est certainement votre bon choix. Nous sommes reconnus comme l'un des fabricants et fournisseurs Single-Wafer-Carrier les plus compétitifs en Chine. Nous fournissons également des emballages en vrac. Vous pouvez avoir besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins réels de votre région, vous pouvez nous laisser un message via les informations de contact sur la page Web. Nous invitons sincèrement les nouveaux et anciens clients à visiter notre usine pour consultation et négociation.