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Anneau supérieur de 8 pouces Epi
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Anneau supérieur de 8 pouces Epi

La bague supérieure EPI Semicorex 8 pouces est un composant de graphite enduit SIC conçu pour être utilisé comme anneau de couverture supérieur dans les systèmes de croissance épitaxiale. Choisissez Semicorex pour sa pureté de matériau de pointe, son usinage précis et sa qualité de revêtement cohérente qui assure des performances stables et une durée de vie des composants prolongés dans les processus semi-conducteurs à haute température. *

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Description du produit

Le cycle supérieur de 8 pouces Semicorex 8 pouces est un composant spécialisé des systèmes de dépôt épitaxiale (EPI) offrant des performances élevées comme anneau de couverture supérieur sur la chambre de réaction. En mettant l'accent sur l'intégrité structurelle et la stabilité thermique pendant la croissance épitaxiale des plaquettes de semi-conducteur, l'anneau EPI supérieur est en graphite de haute pureté et enduit de carbure de silicium (sic) pour résister à la température et aux environnements chimiquement réactifs de la fabrication de semi-conducteurs.


Dans les réacteurs épitaxiaux, l'anneau supérieur aide à conserver l'environnement de la plaquette et joue un rôle important dans l'uniformité de la température et l'écoulement de gaz pendant le dépôt dans le cadre de l'assemblage du suscepteur. Le revêtement SIC sur le substrat de graphite fournit l'anneau supérieur EPI avec la stabilité thermique et l'environnement inerte requis pour protéger le noyau de graphite en raison de l'exposition aux gaz de processus pendant les performances de l'anneau supérieur EPI (hydrogène, silane, clorosilanes, etc.). La dureté et la conductivité de la couche SIC améliorent les performances de l'anneau supérieur EPI en empêchant la dégradation et en permettant des couches plus stables tout au long du cycle de production.


Avec un engagement envers la précision dimensionnelle, la cohérence du revêtement et la répétabilité, l'anneau supérieur EPI de 8 pouces est fabriqué avec l'ingénierie de précision. Le substrat de graphite est usiné à des tolérances serrées et purifiées thermiquement pour séparer les impuretés, offrant un substrat propre avec une excellente pureté et résistance. Le revêtement SIC est appliqué par le dépôt chimique de vapeur (CVD), pour former une couche protectrice dense, cohérente et fortement liée. Ce processus minimise la génération de particules et permet au revêtement de maintenir l'intégrité de la surface lors d'une utilisation prolongée.


Les fabricants de semi-conducteurs s'appuient sur la bague EPI supérieure pour maintenir les paramètres de chambre critique et soutenir des tranches sans défaut pendant la production. La configuration est conçue pour être utilisée avec les principaux systèmes de traitement de plaquettes OEM de 8 pouces. Des options personnalisées sont disponibles pour l'épaisseur, la finition de surface et les conceptions rainurées pour une meilleure gestion thermique ou même la distribution de gaz.


Conformer les propriétés du graphite enduit de SiC pour cette application prend la combinaison des meilleures propriétés des deux matériaux; Le graphite est très machinable et a une résistance aux chocs thermiques combinée avec du carbure de silicium qui est plus difficile, résistant à la corrosion et a une durée de vie plus longue. Cette combinaison vous donne finalement un anneau supérieur EPI qui est fiable à haute température, et garantit un environnement de traitement propre et stable qui réduit les intervalles de maintenance et offre une disponibilité globale de l'équipement amélioré.


Les composants du graphite jouent un rôle indispensable et crucial dans la fabrication de semi-conducteurs. La qualité du matériau en graphite a un impact significatif sur la qualité du produit fini. Notre cohérence par lots en graphite et notre homogénéité des matériaux sont contrôlées et garanties tout au long du processus de production.


1. Production de coups de balle, en utilisant un petit four à carbonisation d'une capacité de seulement 50 mètres cubes.

2. Chaque morceau de matériau est surveillé et suivi.

3. La surveillance de la température à plusieurs points de la fournaise assure des différences de température minimales.

4. La surveillance de la température à plusieurs points du matériau assure des différences de température minimales.


L'anneau supérieur EPI de 8 pouces par Semicorex offre des performances exceptionnelles, une cohérence par lots à lots et une fiabilité prouvée dans les procédés d'épitaxie semi-conducteurs composés les plus difficiles. À chaque étape de fabrication, nous produisons des produits avec un contrôle de la qualité, ce qui signifie que chaque produit acheté pour l'industrie des semi-conducteurs dépasse les spécifications de qualité.


Sélectionnez l'anneau supérieur EPI de 8 pouces de Semicorex pour votre application Epitaxy pour profiter des possibilités offertes par l'ingénierie de précision, les matériaux supérieurs et la personnalisation spécifique à l'application pour améliorer les rendements et les performances de l'appareil.


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