Support de gravure ICP en carbure de silicium

Garantissez des modèles de flux de gaz laminaires optimaux et une uniformité du profil thermique avec le support de gravure ICP en carbure de silicium de Semicorex. Notre produit est conçu pour obtenir les meilleurs résultats possibles pour les processus de dépôt de couches minces et de manipulation de plaquettes. Avec une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, notre support est le choix idéal pour les applications exigeantes.

Chez Semicorex, nous nous concentrons sur la fourniture de produits rentables et de haute qualité à nos clients. Notre support de gravure ICP en carbure de silicium présente un avantage en termes de prix et est exporté vers de nombreux marchés européens et américains. Nous visons à être votre partenaire à long terme, en fournissant des produits de qualité constante et un service client exceptionnel.

Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre support de gravure ICP en carbure de silicium.

Paramètres du support de gravure ICP en carbure de silicium

Caractéristiques du support de gravure ICP en carbure de silicium

- Éviter de se décoller et assurer un revêtement sur toutes les surfaces

Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C

Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.

Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.

Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

- Obtenez le meilleur modèle de flux de gaz laminaire

- Garantir la régularité du profil thermique

- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés