Support de gravure ICP en carbure de silicium

Assurez des modèles d'écoulement de gaz laminaire optimaux et l'uniformité du profil thermique avec le support de gravure ICP en carbure de silicium de Semicorex. Notre produit est conçu pour obtenir les meilleurs résultats possibles pour les processus de dépôt de couches minces et de manipulation de tranches. Avec une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, notre support est le choix parfait pour les applications exigeantes.

Chez Semicorex, nous nous concentrons sur la fourniture de produits de haute qualité et rentables à nos clients. Notre support de gravure ICP en carbure de silicium a un avantage de prix et est exporté vers de nombreux marchés européens et américains. Notre objectif est d'être votre partenaire à long terme, offrant des produits de qualité constante et un service client exceptionnel.

Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre support de gravure ICP en carbure de silicium.

Paramètres du support de gravure ICP en carbure de silicium

Caractéristiques du support de gravure ICP en carbure de silicium

- Éviter le décollement et assurer le revêtement sur toutes les surfaces

Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C

Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.

Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.

Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

- Obtenez le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire

- Garantir l'uniformité du profil thermique

- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés