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Graphite enduit de carbone de silicium ICP

Graphite enduit de carbone de silicium ICP

Le graphite recouvert de carbone-silicium ICP de Semicorex est le choix idéal pour les processus exigeants de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles de flux de gaz laminaires optimaux.

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Description du produit

Les supports de plaquettes utilisés dans le traitement de croissance épitaxiale doivent supporter des températures élevées et un nettoyage chimique agressif. Les suscepteurs en graphite recouvert de carbone de silicium Semicorex ICP sont conçus spécifiquement pour ces applications exigeantes d'équipement d'épitaxie. Notre produit est conçu pour résister à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif, garantissant ainsi une longévité et des résultats optimaux.
Notre graphite recouvert de carbone et de silicium ICP est conçu pour obtenir le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire, garantissant ainsi l'uniformité du profil thermique. Cela permet d'éviter toute contamination ou diffusion d'impuretés, garantissant ainsi une croissance épitaxiale de haute qualité sur la puce.
Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre graphite recouvert de carbone-silicium ICP.


Paramètres du graphite recouvert de carbone-silicium ICP

Principales spécifications du revêtement CVD-SIC

Propriétés SiC-CVD

Structure cristalline

Phase β du FCC

Densité

g/cm³

3.21

Dureté

Dureté Vickers

2500

Taille des grains

µm

2~10

Pureté chimique

%

99.99995

Capacité thermique

J kg-1 K-1

640

Température de sublimation

2700

Force de flexion

MPa (RT 4 points)

415

Module de Young

Gpa (courbure 4pt, 1300℃)

430

Expansion thermique (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Conductivité thermique

(W/mK)

300


Caractéristiques du graphite recouvert de carbone-silicium ICP

- Éviter de se décoller et assurer un revêtement sur toutes les surfaces

Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C

Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.

Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.

Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

- Obtenez le meilleur modèle de flux de gaz laminaire

- Garantir la régularité du profil thermique

- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés





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