La plaque de gravure au plasma ICP de Semicorex offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion pour les processus de manipulation de plaquettes et de dépôt de couches minces. Notre produit est conçu pour résister à des températures élevées et à un nettoyage chimique agressif, garantissant durabilité et longévité. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des wafers vierges.
Lorsqu'il s'agit de dépôt de couches minces et de manipulation de tranches, faites confiance à la plaque de gravure au plasma ICP de Semicorex. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles d'écoulement de gaz laminaire optimaux. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des wafers vierges.
Notre plaque de gravure au plasma ICP est conçue pour obtenir le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire, garantissant l'uniformité du profil thermique. Cela permet d'éviter toute contamination ou diffusion d'impuretés, assurant une croissance épitaxiale de haute qualité sur la puce de plaquette.
Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre plaque de gravure au plasma ICP.
Paramètres de la plaque de gravure au plasma ICP
Principales caractéristiques du revêtement CVD-SIC |
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Propriétés SiC-CVD |
||
Structure en cristal |
Phase β FCC |
|
Densité |
g/cm³ |
3.21 |
Dureté |
Dureté Vickers |
2500 |
Taille d'un grain |
μm |
2~10 |
Pureté chimique |
% |
99.99995 |
Capacité thermique |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Température de sublimation |
℃ |
2700 |
Force Felexurale |
MPa (RT 4 points) |
415 |
Module de Young |
Gpa (pli 4pt, 1300â) |
430 |
Dilatation Thermique (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conductivité thermique |
(W/mK) |
300 |
Caractéristiques de la plaque de gravure au plasma ICP
- Éviter le décollement et assurer le revêtement sur toutes les surfaces
Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C
Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.
Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.
Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.
- Obtenez le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire
- Garantir l'uniformité du profil thermique
- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés