Plaque de gravure au plasma ICP

Lorsqu'il s'agit de dépôt de couches minces et de manipulation de plaquettes, faites confiance à la plaque de gravure plasma ICP de Semicorex. Notre produit offre une résistance supérieure à la chaleur et à la corrosion, une uniformité thermique uniforme et des modèles de flux de gaz laminaires optimaux. Avec une surface propre et lisse, notre support est parfait pour manipuler des plaquettes immaculées.

Notre plaque de gravure au plasma ICP est conçue pour obtenir le meilleur flux de gaz laminaire, garantissant ainsi l'uniformité du profil thermique. Cela permet d'éviter toute contamination ou diffusion d'impuretés, garantissant ainsi une croissance épitaxiale de haute qualité sur la puce.

Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre plaque de gravure plasma ICP.

Paramètres de la plaque de gravure au plasma ICP

Caractéristiques de la plaque de gravure au plasma ICP

- Éviter de se décoller et assurer un revêtement sur toutes les surfaces

Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C

Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.

Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.

Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.

- Obtenez le meilleur modèle de flux de gaz laminaire

- Garantir la régularité du profil thermique

- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés