Le support de plaquette de gravure ICP de Semicorex est la solution parfaite pour les processus de manipulation de plaquettes à haute température tels que l'épitaxie et le MOCVD. Avec une résistance stable à l'oxydation à haute température jusqu'à 1600°C, nos supports garantissent des profils thermiques uniformes, des modèles d'écoulement de gaz laminaire et empêchent la contamination ou la diffusion des impuretés.
Vous recherchez un fournisseur fiable de porte-plaquettes pour votre équipement d'épitaxie ? Ne cherchez pas plus loin que Semicorex. Notre support de plaquette de gravure ICP est conçu spécifiquement pour les environnements de nettoyage chimique agressifs à haute température. Avec un revêtement en cristal SiC fin, nos supports offrent une résistance à la chaleur supérieure, une uniformité thermique uniforme et une résistance chimique durable.
Notre support de plaquette de gravure ICP est conçu pour obtenir le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire, garantissant l'uniformité du profil thermique. Cela permet d'éviter toute contamination ou diffusion d'impuretés, assurant une croissance épitaxiale de haute qualité sur la puce de plaquette.
Contactez-nous dès aujourd'hui pour en savoir plus sur notre support de plaquette de gravure ICP.
Paramètres du support de plaquette de gravure ICP
Principales caractéristiques du revêtement CVD-SIC |
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Propriétés SiC-CVD |
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Structure en cristal |
Phase β FCC |
|
Densité |
g/cm³ |
3.21 |
Dureté |
Dureté Vickers |
2500 |
Taille d'un grain |
μm |
2~10 |
Pureté chimique |
% |
99.99995 |
Capacité thermique |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Température de sublimation |
℃ |
2700 |
Force Felexurale |
MPa (RT 4 points) |
415 |
Module de Young |
Gpa (pli 4pt, 1300â) |
430 |
Dilatation Thermique (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conductivité thermique |
(W/mK) |
300 |
Caractéristiques du support de plaquette de gravure ICP
- Éviter le décollement et assurer le revêtement sur toutes les surfaces
Résistance à l'oxydation à haute température : Stable à haute température jusqu'à 1600°C
Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur CVD dans des conditions de chloration à haute température.
Résistance à la corrosion : dureté élevée, surface dense et particules fines.
Résistance à la corrosion : acides, alcalis, sels et réactifs organiques.
- Obtenez le meilleur schéma d'écoulement de gaz laminaire
- Garantir l'uniformité du profil thermique
- Empêcher toute contamination ou diffusion d'impuretés